| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 序言 | 第10-31页 |
| ·微波铁氧体材料发展历史 | 第10-11页 |
| ·六角钡铁氧体薄膜材料 | 第11-21页 |
| ·钡铁氧体的结构 | 第11-14页 |
| ·钡铁氧体的性质 | 第14-18页 |
| ·钡铁氧体的应用 | 第18-21页 |
| ·微波铁氧体的研究现状 | 第21-27页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-31页 |
| 第二章 BaM 薄膜的制备方法与表征原理 | 第31-42页 |
| ·BaM 薄膜的制备方法简介 | 第31页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜 | 第31-34页 |
| ·磁控溅射原理 | 第32-33页 |
| ·磁控溅射设备系统简介 | 第33页 |
| ·靶材的制备 | 第33-34页 |
| ·薄膜样品的表征 | 第34-41页 |
| ·XRD 原理 | 第34-35页 |
| ·AFM 原理 | 第35-37页 |
| ·MFM 原理 | 第37-38页 |
| ·VSM 原理 | 第38-39页 |
| ·微波性能测试 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第三章 磁控溅射法制备BaM 薄膜的研究 | 第42-67页 |
| ·实验靶材的制备 | 第42-45页 |
| ·钡铁氧体薄膜的沉积参数研究 | 第45-47页 |
| ·Pt 缓冲层的制备 | 第47-49页 |
| ·不同取向Pt 过渡层上BaM 薄膜的制备 | 第49-51页 |
| ·Pt 缓冲层厚度对BaM 薄膜结构的影响 | 第51-62页 |
| ·晶体结构分析 | 第52-54页 |
| ·微结构和磁畴结构分析 | 第54-55页 |
| ·磁性能分析 | 第55-57页 |
| ·微波性能分析 | 第57-62页 |
| ·Ni_(0.16)Zn_(0.3)Co_(0.16)Fe_(2.38)O_4 软磁铁氧体薄膜的微波性能 | 第62-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第四章 亚波长金属阵列对BaM 薄膜的影响研究 | 第67-77页 |
| ·Pt 金属亚波长阵列上BaM 薄膜的制备 | 第68-69页 |
| ·XRD 分析 | 第69-70页 |
| ·AFM 分析 | 第70-72页 |
| ·VSM 分析 | 第72-73页 |
| ·亚波长金属阵列理论分析 | 第73-76页 |
| ·小结 | 第76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第五章 总结 | 第77-79页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |