| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·研究背景与意义 | 第10-13页 |
| ·用于偏振成像的偏振片阵列的研究状况 | 第13页 |
| ·亚波长金属偏振光栅在国内外的研究状况 | 第13-14页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 亚波长金属偏振光栅工作原理及FDTD 理论 | 第16-25页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·亚波长金属偏振光栅的工作原理 | 第17-18页 |
| ·时域有限差分法 | 第18-25页 |
| 第三章 偏振光栅的理论设计 | 第25-33页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·矩形铝光栅的理论模拟 | 第25-29页 |
| ·光栅周期为200nm 的情况 | 第25-27页 |
| ·光栅周期为250nm 的情况 | 第27-29页 |
| ·工艺误差对光栅性能的影响 | 第29-31页 |
| ·光栅齿高度对光栅性能的影响 | 第29-30页 |
| ·占空比对光栅性能的影响 | 第30页 |
| ·光栅齿形状对光栅性能的影响 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31-33页 |
| 第四章 用于纳米压印的光栅模板的制作 | 第33-43页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·全息离子束刻蚀工艺介绍 | 第34-36页 |
| ·离子束刻蚀技术 | 第36-38页 |
| ·离子束刻蚀技术介绍 | 第36-37页 |
| ·CHF_3 气体刻蚀特性研究 | 第37-38页 |
| ·全息光刻胶光栅掩膜的制作 | 第38-41页 |
| ·胶厚对槽形的影响 | 第39-40页 |
| ·曝光量对槽形的影响 | 第40页 |
| ·显影时间对槽形的影响 | 第40-41页 |
| ·离子束刻蚀制作石英光栅 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第五章 一种包裹形光栅的制作 | 第43-51页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·包裹形金属线栅的优化 | 第44-45页 |
| ·包裹形金属光栅的制作与效率测量 | 第45-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第六章 总结与展望 | 第51-53页 |
| ·总结 | 第51-52页 |
| ·展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文及参加的学术会议 | 第58页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第58页 |
| 硕士期间参加的学术会议 | 第58页 |
| 攻读学位期间参加的项目 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |