| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-26页 |
| ·钕铁硼(NdFeB)永磁材料概述 | 第16-17页 |
| ·钕铁硼永磁材料的分类 | 第16-17页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料性能及应用 | 第17页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料的成分与结构 | 第17-18页 |
| ·烧结钕铁硼永磁材料的腐蚀机理 | 第18-20页 |
| ·高温氧化腐蚀 | 第19页 |
| ·电化学腐蚀 | 第19-20页 |
| ·吸氢腐蚀 | 第20页 |
| ·钕铁硼磁体防护层技术 | 第20-25页 |
| ·合金化法 | 第21页 |
| ·表面处理方法 | 第21-25页 |
| ·本课题的主要内容和创新点 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第二章 薄膜的制备及其表征 | 第26-35页 |
| ·实验材料 | 第26-27页 |
| ·实验步骤 | 第27-28页 |
| ·钕铁硼基片的预处理 | 第27页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射原理 | 第28-29页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第29-31页 |
| ·薄膜的形核 | 第29-30页 |
| ·薄膜的生长 | 第30-31页 |
| ·材料的表征 | 第31-33页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第31页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第31-32页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第32-33页 |
| ·电化学性能测试 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 钕铁硼上SiC单层薄膜制备及其耐腐蚀性能研究 | 第35-40页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·实验 | 第35-36页 |
| ·试样的制备 | 第35页 |
| ·钕铁硼基体上SiC薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-39页 |
| ·FESEM测试 | 第36-37页 |
| ·耐腐蚀性能测试 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 钕铁硼上SiC/Al双层薄膜制备及其耐腐蚀性能研究 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验 | 第40-41页 |
| ·试样的制备 | 第40页 |
| ·钕铁硼基体上SiC/Al薄膜的制备 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-47页 |
| ·SiC/Al双层膜的XRD分析 | 第41-42页 |
| ·SiC单层膜和SiC/Al双层膜的AFM分析 | 第42-43页 |
| ·SiC/Al双层膜的FESEM分析 | 第43页 |
| ·电化学腐蚀性能分析 | 第43-46页 |
| ·磁学性能分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 钕铁硼上(SiC/AlN)_2多层膜制备及其耐腐蚀性能研究 | 第48-55页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验 | 第48-49页 |
| ·试样的制备 | 第48页 |
| ·钕铁硼基体上SiC/AlN薄膜的制备 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-53页 |
| ·(SiC/AlN)_2多层膜的XRD分析 | 第49-50页 |
| ·SiC/AlN双层膜和(SiC/AlN)_2多层膜的AFM分析 | 第50-51页 |
| ·SiC/AlN双层膜和(SiC/AlN)_2多层膜的FESEM的分析 | 第51页 |
| ·电化学腐蚀性能分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第62页 |
