深截止型日盲紫外干涉滤光片研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·研究背景及主要内容 | 第9-10页 |
| ·紫外干涉滤光片的国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·紫外干涉滤光片的国外研究现状 | 第10-11页 |
| ·紫外干涉滤光片的国内研究现状 | 第11-12页 |
| ·论文章节安排 | 第12-14页 |
| 第2章 光学薄膜的基础理论 | 第14-25页 |
| ·单层膜 | 第14-17页 |
| ·多层膜 | 第17-20页 |
| ·对称性薄膜 | 第20-22页 |
| ·干涉截止滤光片 | 第22-24页 |
| ·截止带的宽度 | 第22-23页 |
| ·截止波长的透过率 | 第23-24页 |
| ·截止带中心透过率 | 第24页 |
| ·膜系的等效折射率和等效位相厚度 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 膜系的设计及评价 | 第25-34页 |
| ·初始膜系的设计 | 第25-26页 |
| ·截止波段的展宽及截止深度的提高 | 第26-29页 |
| ·紫外滤光片膜系的优化及评价 | 第29-33页 |
| ·紫外滤光片的膜系优化 | 第29-30页 |
| ·紫外滤光片的膜系评价 | 第30-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 日盲紫外干涉滤光片的材料研究 | 第34-52页 |
| ·材料的选择 | 第34-37页 |
| ·基底材料的选取 | 第34-36页 |
| ·镀膜材料的选取 | 第36-37页 |
| ·材料的光学常数的测量方法 | 第37-43页 |
| ·光度法 | 第37-39页 |
| ·基于逐点优化法的多层模型椭圆偏振测量法 | 第39-43页 |
| ·材料光学常数的测量结果 | 第43-51页 |
| ·基底的光学常数的测量 | 第43-45页 |
| ·膜材料的光学常数的测量 | 第45-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 薄膜的制备工艺研究 | 第52-73页 |
| ·制备薄膜的设备研究 | 第52-61页 |
| ·真空设备 | 第52-56页 |
| ·电子枪 | 第56-58页 |
| ·离子源 | 第58-60页 |
| ·膜厚晶控仪 | 第60-61页 |
| ·制备薄膜的工艺研究 | 第61-69页 |
| ·真空室真空度的研究 | 第62-63页 |
| ·电子枪的工艺研究 | 第63-64页 |
| ·考夫曼离子源的工艺研究 | 第64-65页 |
| ·最佳工艺参数的研究 | 第65-68页 |
| ·Tooling 因子的研究 | 第68-69页 |
| ·滤光片的镀制与检测 | 第69-71页 |
| ·滤光片的检测 | 第70-71页 |
| ·滤光片的修正及分析 | 第71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 总结与展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
