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高纯铝烷的合成、性能及应用研究

摘要第1-4页
Abstract第4-8页
第一章 绪论第8-17页
   ·引言第8页
   ·薄膜沉积方法第8-11页
     ·物理气相淀积第8-9页
     ·化学气相淀积第9页
     ·原子层沉积第9-11页
   ·铝前驱体的发展第11-14页
     ·传统铝前驱体的发展第12-13页
     ·新型铝前驱体的发展第13-14页
     ·ALD沉积技术对前驱体的要求第14页
   ·论文的目的及创新性第14-17页
     ·研究内容第15-16页
     ·拟采用的研究方法和合成路线第16-17页
第二章 传统铝烷的合成与提纯第17-32页
   ·引言第17页
   ·实验部分第17-23页
     ·实验试剂第17-18页
     ·实验设备及仪器第18页
     ·三甲胺铝烷TMAA的合成、表征及提纯第18-20页
     ·二甲基乙胺铝烷DMEAA的合成、表征及提纯第20-21页
     ·二甲基氢化铝DMAH的合成、表征及提纯第21-23页
   ·实验结果与讨论第23-31页
     ·TMAA的结果与讨论第23-26页
     ·DMEAA的结果与讨论第26-28页
     ·DMAH的结果与讨论第28-31页
   ·本章小结第31-32页
第三章 氨基吡啶衍生物与三甲胺铝烷反应的探究第32-60页
   ·引言第32页
   ·实验部分第32-40页
     ·实验试剂第32-33页
     ·实验设备及仪器第33页
     ·2-烷基氨基吡啶,2-三甲基硅氨基吡啶的合成及表征第33-34页
     ·氨基吡啶衍生物铝配合物的合成及表征第34-40页
     ·晶体结构的表征第40页
     ·热化学性质的测试与探究第40页
   ·实验结果与讨论第40-50页
     ·配体 2-烷基氨基吡啶,2-三甲基硅氨基吡啶的合成与表征第40-41页
     ·铝配合物(1-5)的合成表征讨论第41-48页
     ·热化学性质讨论第48-50页
   ·[Al2H2{N(2-C5H4N)n-Bu}2]的合成、表征及性质研究第50-58页
     ·实验部分第51-53页
     ·结果与讨论第53-58页
   ·本章小结第58-60页
第四章 氨基吡啶衍生物与三甲基铝反应的探究第60-92页
   ·引言第60页
   ·实验部分第60-72页
     ·实验试剂第60页
     ·实验设备及仪器第60-61页
     ·氨基吡啶衍生物二甲基铝二聚体的合成第61-72页
     ·晶体结构的表征第72页
     ·热化学性质的测试与探究第72页
   ·实验结果与讨论第72-87页
     ·配合物的合成与表征第72-81页
     ·热化学性质的探究第81-87页
   ·2-三甲基硅氨基吡啶二甲基铝二聚体(7)的成膜与提纯第87-90页
     ·实验部分第87-89页
     ·结果与讨论第89-90页
   ·本章小结第90-92页
第五章 主要结论与展望第92-94页
   ·主要结论第92-93页
   ·展望第93-94页
致谢第94-95页
参考文献第95-103页
附图第103-109页
附录: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文及专利第109页

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