摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-17页 |
·引言 | 第8页 |
·薄膜沉积方法 | 第8-11页 |
·物理气相淀积 | 第8-9页 |
·化学气相淀积 | 第9页 |
·原子层沉积 | 第9-11页 |
·铝前驱体的发展 | 第11-14页 |
·传统铝前驱体的发展 | 第12-13页 |
·新型铝前驱体的发展 | 第13-14页 |
·ALD沉积技术对前驱体的要求 | 第14页 |
·论文的目的及创新性 | 第14-17页 |
·研究内容 | 第15-16页 |
·拟采用的研究方法和合成路线 | 第16-17页 |
第二章 传统铝烷的合成与提纯 | 第17-32页 |
·引言 | 第17页 |
·实验部分 | 第17-23页 |
·实验试剂 | 第17-18页 |
·实验设备及仪器 | 第18页 |
·三甲胺铝烷TMAA的合成、表征及提纯 | 第18-20页 |
·二甲基乙胺铝烷DMEAA的合成、表征及提纯 | 第20-21页 |
·二甲基氢化铝DMAH的合成、表征及提纯 | 第21-23页 |
·实验结果与讨论 | 第23-31页 |
·TMAA的结果与讨论 | 第23-26页 |
·DMEAA的结果与讨论 | 第26-28页 |
·DMAH的结果与讨论 | 第28-31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
第三章 氨基吡啶衍生物与三甲胺铝烷反应的探究 | 第32-60页 |
·引言 | 第32页 |
·实验部分 | 第32-40页 |
·实验试剂 | 第32-33页 |
·实验设备及仪器 | 第33页 |
·2-烷基氨基吡啶,2-三甲基硅氨基吡啶的合成及表征 | 第33-34页 |
·氨基吡啶衍生物铝配合物的合成及表征 | 第34-40页 |
·晶体结构的表征 | 第40页 |
·热化学性质的测试与探究 | 第40页 |
·实验结果与讨论 | 第40-50页 |
·配体 2-烷基氨基吡啶,2-三甲基硅氨基吡啶的合成与表征 | 第40-41页 |
·铝配合物(1-5)的合成表征讨论 | 第41-48页 |
·热化学性质讨论 | 第48-50页 |
·[Al2H2{N(2-C5H4N)n-Bu}2]的合成、表征及性质研究 | 第50-58页 |
·实验部分 | 第51-53页 |
·结果与讨论 | 第53-58页 |
·本章小结 | 第58-60页 |
第四章 氨基吡啶衍生物与三甲基铝反应的探究 | 第60-92页 |
·引言 | 第60页 |
·实验部分 | 第60-72页 |
·实验试剂 | 第60页 |
·实验设备及仪器 | 第60-61页 |
·氨基吡啶衍生物二甲基铝二聚体的合成 | 第61-72页 |
·晶体结构的表征 | 第72页 |
·热化学性质的测试与探究 | 第72页 |
·实验结果与讨论 | 第72-87页 |
·配合物的合成与表征 | 第72-81页 |
·热化学性质的探究 | 第81-87页 |
·2-三甲基硅氨基吡啶二甲基铝二聚体(7)的成膜与提纯 | 第87-90页 |
·实验部分 | 第87-89页 |
·结果与讨论 | 第89-90页 |
·本章小结 | 第90-92页 |
第五章 主要结论与展望 | 第92-94页 |
·主要结论 | 第92-93页 |
·展望 | 第93-94页 |
致谢 | 第94-95页 |
参考文献 | 第95-103页 |
附图 | 第103-109页 |
附录: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文及专利 | 第109页 |