| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-16页 |
| ·TiO_2光解水、光催化简介 | 第6-9页 |
| ·宏孔硅发展简介 | 第9-13页 |
| ·宏孔硅的整形技术发展 | 第13-14页 |
| ·本论文的研究内容与研究意义 | 第14-16页 |
| 第二章 宏孔硅的制备、整形及TiO_2纳米线覆盖宏孔硅工艺研究 | 第16-34页 |
| ·宏孔硅的制备 | 第16-20页 |
| ·宏孔硅的整形技术实验研究 | 第20-30页 |
| ·TiO_2纳米线覆载N型宏孔硅实验的技术研究 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 N型宏孔硅/TiO_2纳米线工作电极的光电性能研究 | 第34-43页 |
| ·实验设备介绍及光电化学性能测试实验 | 第34-36页 |
| ·N型宏孔硅/TiO_2纳米线工作电极的XRD结构分析 | 第36-37页 |
| ·N型宏孔硅/TiO_2纳米线工作极的扫描电镜形貌分析 | 第37-38页 |
| ·N型宏孔硅/TiO_2纳米线工作电极的漫反射光谱分析 | 第38-40页 |
| ·N型宏孔硅/TiO_2纳米线工作电极的IV特性曲线研究 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 总结与展望 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |