| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 主要符号表 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| ·选题的背景 | 第10-11页 |
| ·电介质材料概述 | 第11-13页 |
| ·电介质材料 | 第11-13页 |
| ·介电陶瓷材料 | 第13页 |
| ·焦绿石结构简介 | 第13-14页 |
| ·本课题研究领域国内外的研究动态及发展趋势 | 第14-17页 |
| ·本课题的研究思路与内容 | 第17页 |
| ·本课题的创新点 | 第17-19页 |
| 2 A 位离子取代对铋基焦绿石介电性能优化研究 | 第19-36页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·实验 | 第19-21页 |
| ·材料的制备 | 第19-20页 |
| ·结构与性能表征 | 第20-21页 |
| ·BZMZN 陶瓷的结构与性能分析 | 第21-29页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第21-22页 |
| ·SEM 微观形貌分析 | 第22页 |
| ·介电性能分析 | 第22-29页 |
| ·(Bi_(1.5)M_(0.5))(Zr_(1.5)Nb_(0.5))O_7系列陶瓷的结构与性能分析 | 第29-34页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第29-30页 |
| ·介电性能分析 | 第30-34页 |
| ·小结 | 第34-36页 |
| 3 含钛焦绿石陶瓷的晶体结构精修研究 | 第36-54页 |
| ·引言 | 第36-39页 |
| ·理想焦绿石化合物的结构特征 | 第36-37页 |
| ·Rietveld 方法晶体结构精修概述 | 第37-38页 |
| ·GSAS 结构精修软件简介 | 第38页 |
| ·焦绿石 B 位离子取代研究现状 | 第38-39页 |
| ·BZTM 系列陶瓷的 Rietveld 结构精修与介电性能分析 | 第39-52页 |
| ·GSAS 结构精修过程 | 第39-43页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第43-44页 |
| ·SEM 微观形貌分析 | 第44页 |
| ·介电性能分析 | 第44-50页 |
| ·高温电导性能 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 4 温度稳定型焦绿石复相陶瓷研发 | 第54-64页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·实验 | 第55-57页 |
| ·实验配方制定 | 第55-56页 |
| ·材料的制备 | 第56页 |
| ·结构与性能表征 | 第56-57页 |
| ·复相试样的结构与性能分析 | 第57-62页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第57-58页 |
| ·SEM 扫描电镜分析 | 第58页 |
| ·介电性能分析 | 第58-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 5 结论 | 第64-66页 |
| 工作展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 附录 | 第73页 |