| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·二氧化钛(TiO_2) | 第10-15页 |
| ·TiO_2概况 | 第10-11页 |
| ·TiO_2光催化原理 | 第11页 |
| ·TiO_2的制备方法 | 第11-12页 |
| ·影响TiO_2光催化反应的因素 | 第12-13页 |
| ·TiO_2的改性方法 | 第13-15页 |
| ·金属离子掺杂 | 第13-14页 |
| ·半导体复合 | 第14-15页 |
| ·Bi_2O_3 | 第15-16页 |
| ·Bi_2O_3概况 | 第15页 |
| ·Bi_2O_3研究进展 | 第15-16页 |
| ·ZnS | 第16-18页 |
| ·ZnS概况 | 第16-17页 |
| ·ZnS制备方法 | 第17页 |
| ·ZnS研究进展 | 第17-18页 |
| ·本文选题意义 | 第18-19页 |
| ·本文主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 Bi-TiO_2的制备、表征及光催化降解甲基橙的研究 | 第20-40页 |
| ·实验部分 | 第20-23页 |
| ·实验试剂 | 第20页 |
| ·实验仪器 | 第20-21页 |
| ·Bi-TiO_2催化剂的制备 | 第21页 |
| ·Bi-TiO_2催化剂的表征 | 第21-22页 |
| ·Bi-TiO_2光催化降解甲基橙的研究 | 第22-23页 |
| ·分析方法 | 第22页 |
| ·实验过程 | 第22-23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-38页 |
| ·表征结果分析 | 第23-29页 |
| ·XRD分析 | 第23-25页 |
| ·TEM分析 | 第25-26页 |
| ·XPS分析 | 第26-27页 |
| ·UV-vis DRS分析 | 第27-28页 |
| ·FT-IR分析 | 第28-29页 |
| ·制备条件对甲基橙降解的影响及动力学分析 | 第29-33页 |
| ·Bi-Ti摩尔比 | 第29-31页 |
| ·煅烧温度 | 第31-32页 |
| ·煅烧时间 | 第32-33页 |
| ·反应条件对甲基橙降解的影响及动力学分析 | 第33-37页 |
| ·催化剂投加量 | 第33-34页 |
| ·溶液初始pH值 | 第34-36页 |
| ·溶液初始浓度 | 第36-37页 |
| ·Bi-TiO_2光催化剂的稳定性分析 | 第37-38页 |
| ·Bi_TiO_2催化剂光催化降解机理 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 可见光活性增强的ZnS/Bi-TiO_2光催化性能的研究 | 第40-60页 |
| ·实验部分 | 第40-43页 |
| ·实验试剂 | 第40页 |
| ·实验仪器 | 第40-41页 |
| ·ZnS/Bi-TiO_2的制备 | 第41页 |
| ·ZnS的制备 | 第41页 |
| ·ZnS/Bi-TiO_2的制备 | 第41页 |
| ·ZnS/Bi-TiO_2的表征 | 第41-42页 |
| ·ZnS/Bi-TiO_2的光催化性能测定 | 第42-43页 |
| ·分析方法 | 第42-43页 |
| ·实验过程 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-58页 |
| ·表征结果分析 | 第43-49页 |
| ·XRD分析 | 第43-45页 |
| ·XPS分析 | 第45-46页 |
| ·TEM分析 | 第46-47页 |
| ·UV-vis DRS分析 | 第47-48页 |
| ·PL分析 | 第48-49页 |
| ·制备条件对ZnS/Bi-TiO_2光催化性能的影响 | 第49-52页 |
| ·ZnS-Ti摩尔比 | 第49-50页 |
| ·煅烧温度 | 第50-52页 |
| ·反应条件对ZnS/Bi-TiO_2降解甲基橙的影响 | 第52-56页 |
| ·ZnS/Bi-TiO_2的投加量 | 第52-53页 |
| ·溶液初始浓度 | 第53-55页 |
| ·初始pH值 | 第55-56页 |
| ·ZnS/Bi-TiO_2的稳定性分析 | 第56页 |
| ·最佳反应条件下TiO_2、Bi-TiO_2和ZnS/Bi-TiO_2光催化活性对比 | 第56-58页 |
| ·ZnS/Bi-TiO_2光催化活性增强的机理分析 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 附录 | 第67页 |
