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GaN-LED芯片上ITO膜的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-16页
   ·引言第7页
   ·ITO的发展及现状第7-8页
   ·ITO结构和性能第8-12页
   ·ITO的应用第12-14页
   ·本论文主要内容第14-16页
第二章 ITO膜的制备第16-19页
   ·磁控溅射制备ITO膜第16-17页
   ·电子束热蒸发制备ITO膜第17-18页
   ·溶胶-凝胶制备ITO膜第18页
   ·化学气相沉积法(CVD)制备ITO膜第18-19页
第三章 ITO膜的测试方法第19-22页
   ·XRD第19页
   ·扫描电镜(SEM)第19-20页
   ·原子力显微镜(AFM)第20页
   ·四探针第20-21页
   ·分光光度计第21页
   ·台阶仪第21-22页
第四章 磁控溅射制备ITO膜第22-31页
   ·实验的工艺过程第22页
   ·溅射的工艺条件对ITO膜质量的影响第22-30页
   ·本章小结第30-31页
第五章 Ag/ITO膜的工艺研究第31-44页
   ·Ag/ITO与P型GaN的欧姆接触第31-33页
   ·实验的工艺过程第33页
   ·退火温度、时间、Ag层厚度对Ag/ITO膜的影响第33-43页
   ·本章小结第43-44页
第六章 总结第44-45页
致谢第45-46页
参考文献第46-48页
硕士期间发表论文第48页

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