| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·ITO的发展及现状 | 第7-8页 |
| ·ITO结构和性能 | 第8-12页 |
| ·ITO的应用 | 第12-14页 |
| ·本论文主要内容 | 第14-16页 |
| 第二章 ITO膜的制备 | 第16-19页 |
| ·磁控溅射制备ITO膜 | 第16-17页 |
| ·电子束热蒸发制备ITO膜 | 第17-18页 |
| ·溶胶-凝胶制备ITO膜 | 第18页 |
| ·化学气相沉积法(CVD)制备ITO膜 | 第18-19页 |
| 第三章 ITO膜的测试方法 | 第19-22页 |
| ·XRD | 第19页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第19-20页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第20页 |
| ·四探针 | 第20-21页 |
| ·分光光度计 | 第21页 |
| ·台阶仪 | 第21-22页 |
| 第四章 磁控溅射制备ITO膜 | 第22-31页 |
| ·实验的工艺过程 | 第22页 |
| ·溅射的工艺条件对ITO膜质量的影响 | 第22-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第五章 Ag/ITO膜的工艺研究 | 第31-44页 |
| ·Ag/ITO与P型GaN的欧姆接触 | 第31-33页 |
| ·实验的工艺过程 | 第33页 |
| ·退火温度、时间、Ag层厚度对Ag/ITO膜的影响 | 第33-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第六章 总结 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 硕士期间发表论文 | 第48页 |