低气压射频容性耦合等离子体的流体力学模拟程序设计及应用
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 1 绪论 | 第13-30页 |
| ·低温等离子体应用背景 | 第13-16页 |
| ·射频CCP源及其特性 | 第16-20页 |
| ·等离子体源简介 | 第16-19页 |
| ·CCP源的基本性质 | 第19-20页 |
| ·射频CCP放电的研究进展 | 第20-26页 |
| ·CCP源的模拟研究概述 | 第20-23页 |
| ·CCP源的实验研究概述 | 第23-24页 |
| ·CCP源的发展方向 | 第24-26页 |
| ·仿真需求及商业软件 | 第26-29页 |
| ·工业界对仿真的需求 | 第26-27页 |
| ·常用的数值方法 | 第27-28页 |
| ·相关商业软件介绍 | 第28-29页 |
| ·本文研究内容安排 | 第29-30页 |
| 2 射频CCP流体动力学模型及程序设计框架 | 第30-56页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·流体动力学模型 | 第31-43页 |
| ·流体力学方程 | 第31-34页 |
| ·数值计算方法 | 第34-37页 |
| ·边界条件及数值处理 | 第37-42页 |
| ·反应系数处理 | 第42-43页 |
| ·离子蒙特卡罗模块 | 第43-50页 |
| ·MC碰撞过程 | 第43-49页 |
| ·粒子输运及计算流程 | 第49-50页 |
| ·软件平台集成 | 第50-54页 |
| ·仿真平台框架 | 第50-51页 |
| ·等离子体模块/表面模块 | 第51页 |
| ·输入(输出)模块 | 第51-52页 |
| ·化学反应模块 | 第52-53页 |
| ·实验诊断模块 | 第53页 |
| ·其他辅助功能模块设计 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 3 气压及电源参数对等离子体输运的影响 | 第56-63页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·气压对放电的影响 | 第57-58页 |
| ·高频电源对放电的影响 | 第58-60页 |
| ·高频电源的频率 | 第58-59页 |
| ·高频电源的功率 | 第59-60页 |
| ·低频电源对放电的影响 | 第60-62页 |
| ·低频电源的频率 | 第60-61页 |
| ·低频电源的功率 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 4 腔室结构及材料对等离子体输运过程的影响 | 第63-72页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·绝缘介质的影响 | 第63-67页 |
| ·电极间隙的影响 | 第67-69页 |
| ·电源耦合方式的影响 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 5 CF_4/Ar混合气体放电特性的流体模拟研究 | 第72-77页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·CF_4/Ar混合放电特点 | 第72-74页 |
| ·不同气体组分的粒子分布 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 6 双频CCP放电流体模拟结果的实验验证 | 第77-83页 |
| ·实验装置及诊断系统介绍 | 第77-78页 |
| ·实验装置简述 | 第77-78页 |
| ·探针诊断装置 | 第78页 |
| ·模拟结果的实验验证 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 7 基片表面离子能量分布的模拟研究 | 第83-93页 |
| ·引言 | 第83-84页 |
| ·CF_4/Ar混合放电的IED分布 | 第84-90页 |
| ·低频电压的影响 | 第84-86页 |
| ·高频电压的影响 | 第86-87页 |
| ·低频频率的影响 | 第87-89页 |
| ·高频频率的影响 | 第89-90页 |
| ·实验验证 | 第90-92页 |
| ·质谱诊断装置 | 第90-91页 |
| ·验证结果讨论 | 第91-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 结论与展望 | 第93-96页 |
| 主要结论 | 第93-94页 |
| 工作展望 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-106页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第106-108页 |
| 创新点摘要 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109-111页 |
| 作者简介 | 第111-112页 |
