| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·光催化反应原理 | 第10-11页 |
| ·光催化剂研究现状 | 第11-16页 |
| ·单一半导体光催化剂 | 第12页 |
| ·金属离子掺杂半导体催化剂 | 第12-13页 |
| ·复合半导体催化剂 | 第13-14页 |
| ·贵金属沉积 | 第14-15页 |
| ·新型光催化剂 | 第15-16页 |
| ·多孔材料研究 | 第16-21页 |
| ·多孔材料演变与发展 | 第16-17页 |
| ·多孔材料改性原理 | 第17-18页 |
| ·多孔材料化学改性方法 | 第18-20页 |
| ·多孔材料改性光催化剂的应用 | 第20-21页 |
| ·表面金属有机化学简介 | 第21页 |
| ·课题的提出及创新意义 | 第21-24页 |
| 第2章 MCM-41表面高含量氧化钛改性材料的合成及表征 | 第24-40页 |
| ·前言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-28页 |
| ·试剂与仪器 | 第25-26页 |
| ·分子筛MCM-41活化处理 | 第26-27页 |
| ·MCM-41表面四氮二甲基钛一次修饰化合物的制备 | 第27页 |
| ·MCM-41表面氧化钛一次修饰改性化合物的制备 | 第27页 |
| ·分子筛表面高含量氧化钛改性化合物的制备 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-38页 |
| ·红外光谱分析 | 第28-31页 |
| ·透射电镜图谱分析 | 第31-33页 |
| ·EDAX能谱数据分析 | 第33-34页 |
| ·XPS图谱分析 | 第34-37页 |
| ·XRD谱图分析 | 第37-38页 |
| ·热重谱图分析 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第3章 MIL-101表面氧化钛改性材料的合成及表征 | 第40-50页 |
| ·前言 | 第40-41页 |
| ·实验部分 | 第41-43页 |
| ·试剂与仪器 | 第41-42页 |
| ·MIL-101的活化处理 | 第42-43页 |
| ·MIL-101表面四氮二甲基钛化合物的制备 | 第43页 |
| ·MIL-101表面氧化钛改性化合物的制备 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-49页 |
| ·红外光谱分析 | 第43-45页 |
| ·透射电镜图谱分析 | 第45-46页 |
| ·EDAX能谱数据分析 | 第46页 |
| ·XPS图谱分析 | 第46-48页 |
| ·XRD图谱分析 | 第48页 |
| ·热重图谱分析 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 MCM-41/MIL-101表面氧化钛改性材料的性能研究 | 第50-64页 |
| ·前言 | 第50页 |
| ·MCM-41表面氧化钛改性材料的性能测试 | 第50-56页 |
| ·实验部分 | 第50-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-56页 |
| ·MIL-101表面氧化钛改性材料的性能测试 | 第56-62页 |
| ·实验部分 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第78页 |
