| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·高功率毫米波技术 | 第10页 |
| ·回旋管的工作机理 | 第10-11页 |
| ·回旋行波管发展与现状 | 第11-14页 |
| ·回旋速调管发展与现状 | 第14-16页 |
| ·磁控注入枪的工作原理 | 第16页 |
| ·本论文的主要工作及意义 | 第16-19页 |
| 第二章 电子光学系统的理论分析 | 第19-33页 |
| ·电子光学简介 | 第19-20页 |
| ·电子光学系统理论 | 第20-27页 |
| ·电磁场基本理论 | 第20-21页 |
| ·静电场分析 | 第21-23页 |
| ·恒定磁场分析 | 第23-25页 |
| ·电子轨迹方程 | 第25-26页 |
| ·自洽方程组 | 第26-27页 |
| ·磁控注入电子枪中的电子光学理论与分析 | 第27-32页 |
| ·磁控注入电子枪中的电子注运动 | 第28-30页 |
| ·磁控注入电子枪中的绝热压缩 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 回旋管电子枪系统的设计和数值分析 | 第33-57页 |
| ·EGUN 软件设计与优化双阳级磁控注入电子枪 | 第33-40页 |
| ·双阳极磁控注入电子枪的设计 | 第34-38页 |
| ·双阳极磁控注入电子枪的优化 | 第38-40页 |
| ·第一阳极电压对电子枪的影响 | 第38-39页 |
| ·第二阳极电压对电子枪的影响 | 第39页 |
| ·电子注的电流对电子枪的影响 | 第39-40页 |
| ·CST 软件和 EGUN 软件设计结果的比较和分析 | 第40-45页 |
| ·磁控注入电子枪的电场不对称分布对电子枪性能的影响 | 第45-49页 |
| ·阴极结构偏移导致电场分布的不对称对电子枪性能的影响 | 第45-47页 |
| ·第一阳极结构偏移产生的电场不对称性对电子注质量的影响.. | 第47-48页 |
| ·第二阳极结构偏移产生的电场不对称性对电子注质量的影响.. | 第48-49页 |
| ·磁控注入电子枪的磁场不对称分布对电子枪性能的影响 | 第49-51页 |
| ·磁控注入电子枪的电子发射性能研究 | 第51-53页 |
| ·EGUN 软件实现对磁控电子枪三维不对称的研究 | 第53-56页 |
| ·阴极结构平移产生的电场不对称性对电子注质量的影响 | 第53-54页 |
| ·第一阳极结构平移产生的电场不对称性对电子注质量的影响.. | 第54-55页 |
| ·第二阳极结构平移产生的电场不对称性对电子注质量的影响.. | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 新型磁控注入电子枪的设计 | 第57-67页 |
| ·新型阴极可调的双阳极磁控注入电子枪的设计 | 第57-60页 |
| ·新型多频点磁控注入电子枪的设计 | 第60-65页 |
| ·第一阳极电压对电子注性能的影响 | 第61-62页 |
| ·电子注电流对电子注性能的影响 | 第62-63页 |
| ·阴极磁场对电子注性能的影响 | 第63-64页 |
| ·第二阳极电压对电子注性能的影响 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 总结和展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
