摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-12页 |
图和附表清单 | 第12-15页 |
1 文献综述 | 第15-26页 |
·引言 | 第15页 |
·氧化钼的结构、基本性质和制备方法 | 第15-20页 |
·氧化钼的结构 | 第15-16页 |
·氧化钼的基本性质及应用 | 第16页 |
·氧化钼的制备方法 | 第16-19页 |
·层状钼酸盐插层研究进展 | 第19-20页 |
·Ag/AgCl等离子体光催化剂研究现状 | 第20-22页 |
·冷冻干燥技术在纳米材料制备方面的应用 | 第22-23页 |
·半导体化学传感器研究进展 | 第23-24页 |
·本课题的研究思路、研究内容及创新点 | 第24-26页 |
·研究思路 | 第24页 |
·研究内容 | 第24-25页 |
·创新点 | 第25-26页 |
2 钼酸基无机/有机混杂结构的制备及表征 | 第26-36页 |
·引言 | 第26页 |
·实验部分 | 第26-27页 |
·原料与试剂 | 第26页 |
·仪器设备 | 第26页 |
·实验过程 | 第26-27页 |
·结果与讨论 | 第27-35页 |
·原料的物相和形貌表征分析 | 第27-28页 |
·无机/有机前驱体的物相和形貌分析 | 第28-30页 |
·无机/有机层状混杂结构的TG-DTA分析 | 第30-31页 |
·无机/有机层状混杂结构的FT-IR分析 | 第31-32页 |
·无机/有机层状混杂结构的形成机理 | 第32-33页 |
·插层反应溶剂对无机/有机混杂物形成的影响 | 第33-34页 |
·插层反应原料对无机/有机混杂物形成的影响 | 第34-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
3 基于局部转化法制备MoO_3纳米片及其气敏性能研究 | 第36-50页 |
·引言 | 第36页 |
·实验部分 | 第36-39页 |
·原料与试剂 | 第36页 |
·仪器设备 | 第36页 |
·实验过程 | 第36-39页 |
·结果讨论 | 第39-49页 |
·α-MoO_3纳米片的物相形貌表征 | 第39-43页 |
·α-MoO_3纳米片的元素分析 | 第43页 |
·α-MoO_3纳米片的拉曼分析 | 第43-44页 |
·α-MoO_3纳米片的气敏性能分析 | 第44-47页 |
·α-MoO_3纳米片的光催化性能 | 第47-49页 |
·小结 | 第49-50页 |
4 水热法制备MoO_3纳米带及其气敏性能研究 | 第50-57页 |
·引言 | 第50页 |
·实验部分 | 第50-51页 |
·原料与试剂 | 第50页 |
·仪器设备 | 第50页 |
·实验过程 | 第50-51页 |
·结果与讨论 | 第51-55页 |
·水热法制备α-MoO_3纳米晶的物相、形貌表征 | 第51-52页 |
·水热法制备α-MoO_3纳米晶的气敏性能测试 | 第52-54页 |
·水热反应时间对MoO_3纳米晶的形貌及气敏性能的影响 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
5 Ag/AgCl纳米晶光催化剂的制备及其光催化性能 | 第57-74页 |
·引言 | 第57页 |
·实验部分 | 第57-59页 |
·原料与试剂 | 第57页 |
·实验过程 | 第57-59页 |
·结果与讨论 | 第59-73页 |
·PVP-Ag~+前驱体物相、形貌、组成及结构分析 | 第59-61页 |
·多级Ag/AgCl纳米晶的物相形貌分析 | 第61-63页 |
·Ag/AgCl纳米晶的XPS分析 | 第63-64页 |
·Ag/AgCl纳米晶的光催化性能 | 第64-65页 |
·Ag/AgCl纳米晶的稳定性和循环使用性能 | 第65-66页 |
·Ag/AgCl纳米晶在太阳光下降解RhB性能测试 | 第66-67页 |
·Ag/AgCl纳米晶在不同光强的可见光下降解RhB性能测试 | 第67页 |
·多级Ag/AgCl光催化剂工艺参数对催化性能的影响 | 第67-69页 |
·制备工艺对Ag/AgCl光降解RhB性能的影响 | 第69-71页 |
·Ag/AgCl纳米晶的光催化机理 | 第71-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
6 全文结论与展望 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
个人简历 | 第86-87页 |
硕士期间取得的主要成绩 | 第87页 |
一 发表的学术论文 | 第87页 |
二 申请的专利 | 第87页 |
三 参加的科研项目 | 第87页 |