| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-34页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·钙钛矿型锰氧化物的基本性质 | 第11-14页 |
| ·钙钛矿结构的晶体构型 | 第11-12页 |
| ·具有钙钛矿结构的锰氧化物 | 第12-13页 |
| ·钙钛矿型锰氧化物的性质及应用 | 第13-14页 |
| ·氧化锌的基本性质 | 第14-19页 |
| ·氧化锌的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·氧化锌的化学性质 | 第16页 |
| ·氧化锌的机械性质 | 第16-17页 |
| ·氧化锌的电学性质 | 第17页 |
| ·氧化锌的光学性质 | 第17-18页 |
| ·氧化锌薄膜的主要应用 | 第18-19页 |
| ·锰氧化物异质结构 | 第19-23页 |
| ·锰氧化物外延异质结 | 第19-20页 |
| ·锰氧化物多晶异质结 | 第20-21页 |
| ·锰氧化物异质结的光电特性 | 第21-23页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第23-28页 |
| ·脉冲激光沉积的基本原理 | 第23-25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·脉冲激光沉积的优缺点 | 第26-28页 |
| ·本论文的选题目的、意义及主要实验结果 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-34页 |
| 第二章 激光脉冲沉积制备氧化物薄膜 | 第34-47页 |
| ·钙钛矿型锰氧化物薄膜 | 第34-38页 |
| ·LCKMO 靶材的制备 | 第34-35页 |
| ·LCKMO 薄膜生长 | 第35-36页 |
| ·LCKMO 薄膜的表征 | 第36-38页 |
| ·钌酸锶薄膜 | 第38-42页 |
| ·SrRuO_3靶材的制备 | 第38-40页 |
| ·SrRuO_3薄膜生长 | 第40页 |
| ·SrRuO_3薄膜的形貌和晶体结构测试 | 第40-41页 |
| ·SrRuO_3薄膜作为导电电极的应用 | 第41-42页 |
| ·氧化锌薄膜 | 第42-44页 |
| ·氧化锌薄膜生长 | 第42-43页 |
| ·沉积温度对薄膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 第三章 LCKMO/ZnO 异质结器件及其光电性质研究 | 第47-61页 |
| ·LCKMO/ZnO 异质结器件的制备 | 第47-51页 |
| ·ITO 导电薄膜的处理 | 第47-48页 |
| ·LCKMO/ZnO 异质结薄膜生长 | 第48-49页 |
| ·电极制作 | 第49-51页 |
| ·LCKMO/ZnO 异质结的表征 | 第51-54页 |
| ·LCKMO/ZnO 异质结的结构分析 | 第51-52页 |
| ·LCKMO/ZnO 异质结的形貌分析 | 第52-54页 |
| ·LCKMO/ZnO 异质结的光电特性 | 第54-59页 |
| ·光电特性的测试 | 第54-56页 |
| ·厚度对光电特性的影响 | 第56-58页 |
| ·光电特性的理论模拟 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第四章 氧化锌中空纳米小球阵列 | 第61-69页 |
| ·单层聚苯乙烯阵列模板 | 第61-63页 |
| ·中空小球的制备 | 第63-65页 |
| ·三维小球临界厚度摸索 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第五章 结论与展望 | 第69-70页 |
| 作者简介及攻读硕士学位期间发表论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |