InP基MZI-SOA光开关的实验方案研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1 绪论	第8-13页
·课题背景	第8-9页
·光开关种类	第9-10页
·光子集成技术	第10-12页
·本课题的研究意义与主要研究内容	第12-13页
2 InP 基单片集成技术	第13-23页
·InP 基加工工艺	第13-17页
·常见的 InP 基单片集成技术	第17-22页
·本章小节	第22-23页
3 光开关的结构以及实验设计	第23-43页
·导言	第23-24页
·MZI-SOA 光开关原理与结构	第24-27页
·掩膜版设计	第27-30页
·外延片生长	第30-33页
·实验工艺流程	第33-41页
·本章小结	第41-43页
4 InP 基弧形波导实验工艺研究	第43-68页
·实验方案设计	第43-44页
·弧形波导结构	第44-45页
·光刻实验	第45-56页
·湿法刻蚀	第56-65页
·干法刻蚀	第65-66页
·器件测试	第66-67页
·本章小结	第67-68页
5 光开关的优化设计和未来展望	第68-74页
·掩埋双异质结型有源区	第68-71页
·光子晶体与 SOA 的结合	第71-73页
·本章小结	第73-74页
致谢	第74-75页
参考文献	第75-80页