摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 绪论 | 第11-27页 |
·H13 钢的主要性能 | 第11-12页 |
·H13 钢的表面强化技术 | 第12-14页 |
·表面低温化学热处理 | 第12-13页 |
·高能束流表面处理 | 第13-14页 |
·离子渗氮技术 | 第14-17页 |
·离子渗氮的原理 | 第14-17页 |
·离子渗氮(PN)技术的主要特点 | 第17页 |
·气相沉积涂层技术 | 第17-20页 |
·化学气相沉积(CVD)技术 | 第17-19页 |
·物理气相沉积(PVD)技术 | 第19页 |
·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术 | 第19-20页 |
·PN 与 PECVD 复合处理技术 | 第20-22页 |
·Ti(CN)与类金刚石(DLC)硬质涂层的简介 | 第22-25页 |
·Ti(CN)涂层 | 第22页 |
·DLC 涂层 | 第22-25页 |
·研究的目的及意义 | 第25页 |
·研究的主要内容 | 第25-27页 |
第二章 实验方法 | 第27-36页 |
·实验方案 | 第27-28页 |
·离子渗氮的方案选择 | 第27页 |
·离子氮化与 Ti(CN)膜复合处理实验方案选择 | 第27页 |
·DLC 膜实验方案 | 第27-28页 |
·离子氮化与 DLC 膜复合处理实验方案 | 第28页 |
·实验设备简介及材料选择 | 第28-30页 |
·离子渗氮及镀膜实验设备简介 | 第28页 |
·基体材料 | 第28-29页 |
·Ti 源的选择 | 第29-30页 |
·碳源的选择 | 第30页 |
·结构及性能检测 | 第30-36页 |
·表面形貌及截面形貌观测 | 第30页 |
·X 射线衍射物相分析 | 第30-31页 |
·Raman 光谱分析 | 第31-32页 |
·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第32-33页 |
·显微硬度测试 | 第33-34页 |
·薄膜的膜/基结合力分析 | 第34-35页 |
·摩擦磨损测试 | 第35-36页 |
第三章 H13 钢离子渗氮与 MOPCVD 镀 Ti(CN)膜复合处理 | 第36-49页 |
·H13 的离子氮化 | 第36-39页 |
·Ar 离子轰击对离子渗氮白亮层厚度的影响 | 第36-38页 |
·Ar 离子轰击对渗氮层表面硬度的影响 | 第38-39页 |
·MOPCVD 沉积 Ti(CN)膜的形貌 | 第39-40页 |
·Ti(CN)膜的表面形貌 | 第39-40页 |
·Ti(CN)膜的截面形貌 | 第40页 |
·H13 钢不同处理后的硬度 | 第40-41页 |
·H13 钢不同预处理对 Ti(CN)涂层与基体结合力的影响 | 第41-43页 |
·H13 钢不同表面处理后的摩擦磨损性能 | 第43-48页 |
·常温摩擦磨损性能 | 第43-45页 |
·高温摩擦磨损性能 | 第45-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第四章 H13 钢离子渗氮与 PECVD 镀 DLC 膜复合处理 | 第49-78页 |
·样品制备 | 第49页 |
·膜层的拉曼光谱(Raman)分析 | 第49-56页 |
·负偏压对膜层结构的影响 | 第50-53页 |
·气氛对膜层结构的影响 | 第53-56页 |
·膜层的 X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第56-63页 |
·负偏压对膜层组分的影响 | 第56-60页 |
·气氛对膜层组分的影响 | 第60-63页 |
·工艺参数对膜层厚度及截面形貌的影响 | 第63-65页 |
·负偏压对膜层厚度及截面形貌的影响 | 第63-65页 |
·气氛对膜层厚度及截面形貌的影响 | 第65页 |
·工艺参数对膜层硬度的影响 | 第65-67页 |
·负偏压对膜层硬度的影响 | 第66页 |
·气氛对膜层硬度的影响 | 第66-67页 |
·工艺参数对膜层摩擦系数的影响 | 第67-73页 |
·负偏压对膜层摩擦系数的影响 | 第67-71页 |
·气氛对膜层摩擦系数的影响 | 第71-73页 |
·H13 钢离子渗氮与 PECVD 镀 DLC 膜的复合处理 | 第73-77页 |
·膜层的 Raman 光谱分析 | 第73-74页 |
·复合处理对表面硬度的影响 | 第74-75页 |
·复合处理对膜/基结合力的影响 | 第75-76页 |
·摩擦学性能 | 第76-77页 |
·本章小结 | 第77-78页 |
结论与展望 | 第78-80页 |
结论 | 第78-79页 |
展望 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-86页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
致谢 | 第87-88页 |
附件 | 第88页 |