高功率面发射激光器的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·半导体激光器的发展 | 第10-11页 |
| ·VECSELs 的特性 | 第11-13页 |
| ·VECSELs 研究进展 | 第13-15页 |
| ·VECSELs 高功率研究进展 | 第13页 |
| ·VECSELs 激光波长扩展的研究进展 | 第13-14页 |
| ·VECSELs 超短脉冲研究进展 | 第14-15页 |
| ·VECSELs 的应用 | 第15-16页 |
| ·论文主要工作 | 第16-17页 |
| 2 VECSELs 基本理论 | 第17-39页 |
| ·基本结构 | 第17-19页 |
| ·分布布拉格反射镜 | 第19-25页 |
| ·周期谐振增益结构 | 第25-27页 |
| ·多量子阱有源区 | 第27-32页 |
| ·量子阱应变理论 | 第27-28页 |
| ·量子阱临界厚度 | 第28-29页 |
| ·量子阱的增益 | 第29-31页 |
| ·量子阱的自发辐射谱 | 第31-32页 |
| ·激光器的输出 | 第32-38页 |
| ·输出阈值 | 第32-34页 |
| ·输出功率 | 第34-36页 |
| ·输出光斑 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 3 VECSELs 热管理 | 第39-52页 |
| ·热管理基本理论 | 第39-40页 |
| ·热管理技术 | 第40-43页 |
| ·基质刻蚀 | 第40-41页 |
| ·散热窗口 | 第41-43页 |
| ·热管理工艺实验 | 第43-51页 |
| ·粘贴散热片工艺 | 第44-48页 |
| ·基质刻蚀工艺 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 4 高功率 VECSELs 特性研究 | 第52-62页 |
| ·激光器构建 | 第52-55页 |
| ·外延片结构 | 第52-54页 |
| ·泵浦方式 | 第54-55页 |
| ·增益材料特性 | 第55-58页 |
| ·DBR 反射谱 | 第56-57页 |
| ·面自发辐射谱 | 第57-58页 |
| ·激光器输出特性 | 第58-61页 |
| ·激光光谱 | 第58-59页 |
| ·光束质量 | 第59-60页 |
| ·输出功率 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 5 总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 附录：作者攻读硕士学位期间发表论文及科研情况 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
