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具有放电回路的镁合金微弧氧化脉冲电源研制

目录第1-8页
摘要第8-9页
Abstract第9-11页
第1章 绪论第11-22页
   ·微弧氧化表面处理技术第11-16页
     ·微弧氧化技术产生与发展第11-12页
     ·微弧氧化的基本原理第12-13页
     ·微弧氧化的工艺特点第13-15页
     ·微弧氧化技术应用前景第15-16页
   ·微弧氧化负载特性研究现状第16-17页
   ·国内外微弧氧化电源研究现状第17-20页
     ·微弧氧化电源发展概况第17-18页
     ·国内微弧氧化电源研究现状第18-19页
     ·现存电源优劣性分析第19-20页
   ·课题研究目的和意义第20-21页
   ·课题研究内容第21-22页
第2章 镁合金微弧氧化微区放电机理研究第22-34页
   ·镁合金微弧氧化成膜过程分析第22-27页
     ·膜层生长速度第22-23页
     ·膜层形貌分析第23-25页
     ·膜层生长过程第25-27页
   ·镁合金微弧氧化成膜机理探讨第27-29页
   ·镁合金微弧氧化微区放电模型第29-31页
     ·微区放电模型第29-30页
     ·关于模型的重要推论第30-31页
   ·微弧氧化成膜条件分析第31-33页
     ·电解液要求第31-32页
     ·初始膜层第32页
     ·导电通道第32页
     ·高压电场第32页
     ·水的电解第32-33页
   ·本章小结第33-34页
第3章 镁合金微弧氧化负载特性及其对电源要求第34-53页
   ·镁合金微弧氧化负载特性分析第34-39页
     ·数据采集方式第34-35页
     ·实验条件与方法第35页
     ·负载传递函数第35-37页
     ·负载电路模型第37-39页
   ·负载特性对电源的要求第39-51页
     ·对脉冲形式的要求第39-46页
     ·对控制方式的要求第46-50页
     ·对工艺参数匹配的要求第50-51页
   ·本章小结第51-53页
第4章 具有放电回路的微弧氧化脉冲电源设计第53-68页
   ·电源总体方案第53-54页
   ·主电路设计第54-60页
     ·功率器件选择第55-57页
     ·保护电路设计第57-59页
     ·并联 IGBT 均流问题第59-60页
   ·控制电路设计第60-67页
     ·控制电路设计要求第60-61页
     ·控制系统组成第61-63页
     ·控制系统硬件设计第63-66页
     ·抗干扰措施第66-67页
   ·本章小结第67-68页
第5章 控制系统软件设计第68-74页
   ·参数预置和操作流程第68-71页
   ·过程控制流程第71页
   ·电源控制软件设计第71-72页
     ·控制原理第71-72页
     ·调节算法第72页
   ·计算机控制程序第72-73页
   ·本章小结第73-74页
第6章 电源调试第74-80页
   ·离线调试第74-77页
     ·SCR 触发电路离线调试第74-76页
     ·IGBT 驱动电路离线调试第76-77页
   ·上电调试第77-79页
     ·主电路上电顺序调试第77页
     ·整流电路调试第77-78页
     ·斩波电路调试第78-79页
   ·本章小结第79-80页
结论第80-81页
参考文献第81-85页
致谢第85-86页
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录第86页

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