| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 第一章 文献综述 | 第13-28页 |
| ·锂电池正极 | 第13-20页 |
| ·钴酸锂 | 第14-15页 |
| ·镍酸锂(LiNiO_2) | 第15-16页 |
| ·锰酸锂(LiMn_2O_4) | 第16页 |
| ·磷酸铁锂(LiFePO_4) | 第16-17页 |
| ·过渡金属硫化物 | 第17-20页 |
| ·薄膜锂电池 | 第20-26页 |
| ·化学汽相扩散沉积(Chemical Vapor Transport) | 第20页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第20-21页 |
| ·纯铁膜硫化 | 第21-22页 |
| ·喷雾热解法 | 第22-23页 |
| ·低温化学法 | 第23页 |
| ·氧化铁膜硫化法 | 第23-24页 |
| ·电化学沉积 | 第24页 |
| ·磁控溅射 | 第24-25页 |
| ·闪蒸镀 | 第25页 |
| ·分子束沉积 | 第25-26页 |
| ·本课题的研究意义与主要任务 | 第26-28页 |
| 第二章 研究内容及实验方法 | 第28-35页 |
| ·基本思路 | 第28页 |
| ·研究内容 | 第28-29页 |
| ·制备薄膜基体的选择 | 第28页 |
| ·金属二硫化物的优势区位图分析、制备条件的理论分析 | 第28页 |
| ·FeS_2、NiS_2薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·金属二硫化物薄膜材料性能分析 | 第29页 |
| ·金属二硫化物薄膜材料的晶体结构等分析 | 第29页 |
| ·金属二硫化物薄膜电极的电化学性能分析 | 第29页 |
| ·实验的材料 | 第29页 |
| ·薄膜制备方法 | 第29-32页 |
| ·溶胶-凝胶法制备金属氧化薄膜 | 第29-31页 |
| ·金属氧化薄膜的硫化制备金属硫化物薄膜 | 第31-32页 |
| ·样品结构和形貌分析 | 第32页 |
| ·样品的X衍射分析 | 第32页 |
| ·样品的电子扫描显微分析 | 第32页 |
| ·样品性能测试方法 | 第32-35页 |
| ·金属硫化物薄膜电极组装电池的方法 | 第32页 |
| ·金属硫化物薄膜电极循环伏安分析方法 | 第32-33页 |
| ·金属硫化物薄膜电极组装而成电池的充放电性能测试方法 | 第33页 |
| ·金属硫化物薄膜电极电位阶跃方法 | 第33-35页 |
| 第三章 基体的选择 | 第35-40页 |
| ·前言 | 第35页 |
| ·热处理过程硫对金片材料稳定性研究 | 第35-36页 |
| ·金片电极的电化学稳定性研究 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 NiS_2、FeS_2合成的优势区位图 | 第40-62页 |
| ·前言 | 第40页 |
| ·优势区位图原理 | 第40-42页 |
| ·Fe-S-O中的lgP_(S2)-lgP_(02)优势区位图 | 第42-49页 |
| ·Fe-S-O中各化合物的自由能与温度的关系 | 第42-43页 |
| ·Fe-S-O中特定温度下各化合物的自由能计算 | 第43-44页 |
| ·各化合物按方程(4-1)的反应生成自由能 | 第44页 |
| ·Fe-S-O中的lgP_(S2)-lgP_(02)优势区位图绘制过程300℃三相点的坐标计算 | 第44-47页 |
| ·三相点图形的绘制 | 第47页 |
| ·优势图的完成 | 第47-49页 |
| ·在Fe-S-O中的lgP_(S2)-lgP_(S02)优势区位图 | 第49-51页 |
| ·Ni-S-O的lgP_(S2)-lgP_(02)和lgP_(S2)-lgP_(S02)优势区位图 | 第51-56页 |
| ·黄铁矿、二硫化镍合成过程理论分析 | 第56-59页 |
| ·密封反应器中硫化Fe_2O_3、NiO制备FeS_2、NiS_2材料制备 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 FeS_2的合成及其电化学性能 | 第62-79页 |
| ·前言 | 第62-63页 |
| ·Fe_2O_3薄膜的制备 | 第63-65页 |
| ·溶胶-凝胶的制备 | 第63页 |
| ·Fe_2O_3薄膜的制备 | 第63-65页 |
| ·环氧氯丙烷的量对Fe_2O_3薄膜外观质量的影响 | 第63-64页 |
| ·热处理温度对Fe_2O_3薄膜的相结构影响 | 第64页 |
| ·Fe_2O_3薄膜的形貌、含量分析 | 第64-65页 |
| ·FeS_2薄膜的硫化制备及其性能分析 | 第65-78页 |
| ·热处理温度对硫化铁薄膜的影响 | 第66-73页 |
| ·热处理温度对硫化铁薄膜的相结构影响 | 第67-68页 |
| ·热处理温度对硫化铁薄膜的含量影响 | 第68-69页 |
| ·热处理温度对硫化铁薄膜形貌、晶粒大小的影响 | 第69-71页 |
| ·热处理温度对硫化铁薄膜电化学性能的影响 | 第71-73页 |
| ·热处理时间对硫化铁薄膜的影响 | 第73-75页 |
| ·热处理时间对硫化铁薄膜的相结构影响 | 第73-74页 |
| ·热处理时间对硫化铁薄膜形貌、晶粒大小的影响 | 第74页 |
| ·热处理时间对硫化铁薄膜电化学性能的影响 | 第74-75页 |
| ·热处理压力对硫化铁薄膜的影响 | 第75-78页 |
| ·热处理硫化Fe_2O_3薄膜过程硫压力对铁硫化薄膜的相结构影响 | 第75-76页 |
| ·热处理硫化Fe_2O_3薄膜过程中硫压力对硫化铁薄膜形貌的影响 | 第76-77页 |
| ·硫压力对硫化铁薄膜电化学性能的影响 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 NiS_2的合成及其电化学性能 | 第79-95页 |
| ·前言 | 第79页 |
| ·NiO薄膜的制备 | 第79-81页 |
| ·溶胶-凝胶的制备 | 第79-80页 |
| ·NiO薄膜的制备 | 第80-81页 |
| ·环氧氯丙烷的量对氧化铁薄膜质量的影响 | 第80页 |
| ·热处理温度对NiO薄膜的影响 | 第80-81页 |
| ·NiO薄膜的形貌分析 | 第81页 |
| ·NiS_2薄膜的硫化制备及其性能分析 | 第81-93页 |
| ·热处理温度对硫化镍薄膜的影响 | 第82-87页 |
| ·热处理硫化NiO薄膜过程温度对镍硫化薄膜的相结构 | 第82-84页 |
| ·热处理温度对硫化镍薄膜形貌的影响 | 第84-86页 |
| ·热处理温度对镍硫化物薄膜电化学性能的影响 | 第86-87页 |
| ·热处理时间对硫化镍薄膜的影响 | 第87-90页 |
| ·热处理硫化NiO薄膜过程时间对镍硫化薄膜的相结构影响 | 第87-88页 |
| ·热处理时间对镍硫化薄膜形貌的影响 | 第88-89页 |
| ·热处理时间对硫化镍薄膜电化学性能的影响 | 第89-90页 |
| ·热处理硫气体压强对镍硫化薄膜的影响 | 第90-93页 |
| ·热处理硫化NiO薄膜过程硫压力对镍硫化薄膜的相结构影响 | 第90-91页 |
| ·热处理硫化NiO薄膜过程硫压力对镍硫化薄膜形貌的影响 | 第91-92页 |
| ·硫压力对二硫化镍薄膜电化学性能的影响 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 第七章 FeS_2、NiS_2薄膜电极充放电过程的电化学研究 | 第95-108页 |
| ·前言 | 第95页 |
| ·循环伏安电化学测试 | 第95-100页 |
| ·FeS_2薄膜电极 | 第95-98页 |
| ·NiS_2薄膜电极 | 第98-100页 |
| ·电极的恒电流放电过程 | 第100-103页 |
| ·FeS_2薄膜电极 | 第100-102页 |
| ·NiS_2薄膜电极 | 第102-103页 |
| ·FeS_2、NiS_2电极的恒电位放电过程及Li~+离子在FeS_2、NiS_2中扩散系数的测定 | 第103-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第八章 总结 | 第108-111页 |
| 参考文献 | 第111-125页 |
| 攻读博士学位期间主要的研究成果目录 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126页 |
