| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-35页 |
| 1．1 引言 | 第7-8页 |
| 1．2 巨磁电阻效应的物理基础 | 第8-11页 |
| 1．3 巨磁电阻效应材料的发展概况 | 第11-13页 |
| 1．4 巨磁电阻效应材料的分类 | 第13-17页 |
| 1．5 巨磁电阻效应产生机制 | 第17-26页 |
| 1．6 巨磁电阻效应材料的应用 | 第26-31页 |
| 1．7 离子注入技术及其在磁性材料中的应用 | 第31页 |
| 1．8 选题的意义与论文创新点 | 第31-32页 |
| 1．8．1 新型合金靶材与薄膜成分的设计 | 第31-32页 |
| 1．8．2 离子注入对NiFeCo／Ag非连续多层膜的改性 | 第32页 |
| 1．9 论文的主要工作 | 第32-33页 |
| 1．10 本章小结 | 第33-35页 |
| 第二章 射频磁控溅射NiFeCo／Ag非连续多层膜的制备技术及实验方法 | 第35-46页 |
| 2．1 射频磁控溅射镀膜技术 | 第35-36页 |
| 2．2 RFMS-4磁控溅射仪的主要功能与技术特性 | 第36-38页 |
| 2．3 纳米膜工艺技术参数 | 第38-39页 |
| 2．3．1 溅射速率稳定性研究 | 第38页 |
| 2．3．2 溅射工艺参数的确定 | 第38-39页 |
| 2．4 纳米多层膜的制备 | 第39-43页 |
| 2．4．1 基片的选择与预处理 | 第39-41页 |
| 2．4．2 多层膜结构参数的确定 | 第41页 |
| 2．4．3 射频磁控溅射镀膜工艺流程 | 第41-42页 |
| 2．4．4 薄膜的真空退火 | 第42-43页 |
| 2．5 离子注入设备与工艺 | 第43-45页 |
| 2．6 本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 NiFeCo／Ag非连续多层膜形貌及结构分析 | 第46-69页 |
| 3．1 薄膜组分和结构的测量与分析 | 第46-55页 |
| 3．1．1 俄歇能谱（AES）分析 | 第46-48页 |
| 3．1．2 X射线衍射（XRD）分析 | 第48-51页 |
| 3．1．3 扫描电镜（SEM）分析 | 第51-55页 |
| 3．2 原子力显微镜（AFM）对薄膜表面形貌的观测 | 第55-67页 |
| 3．3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第四章 未注入Co离子的NiFeCo／Ag非连续多层膜巨磁电阻效应的研究 | 第69-80页 |
| 4．1 薄膜巨磁电阻效应与磁性测试 | 第69-71页 |
| 4．1．1 薄膜磁电阻的测试原理 | 第69-70页 |
| 4．1．2 薄膜巨磁电阻效应和磁性曲线的测量 | 第70-71页 |
| 4．2 退火温度对NiFeCo／Ag非连续多层膜巨磁电阻效应影响分析 | 第71页 |
| 4．3 调制结构对NiFeCo／Ag非连续多层膜GMR效应影响 | 第71-74页 |
| 4．4 NiFeCo／Ag非连续多层膜的磁性能分析 | 第74-76页 |
| 4．5 未注入Co离子的NiFeCo／Ag颗粒膜和非连续多层膜的巨磁电阻效应比较 | 第76-79页 |
| 4．6 本章小结 | 第79-80页 |
| 第五章 注入Co离子的NiFeOo／Ag非连续多层膜巨磁电阻效应的研究 | 第80-92页 |
| 5．1 退火温度对NiFeCo／Ag非连续多层膜GMR效应的影响 | 第80-82页 |
| 5．2 调制结构对NiFeCo／Ag非连续多层膜GMR效应影响 | 第82-83页 |
| 5．3 注入Co离子对NiFeCo／Ag非连续多层膜巨磁电阻效应的影响 | 第83-85页 |
| 5．4 注入Co离子的NiFeCo／Ag非连续多层膜的磁性分析 | 第85-87页 |
| 5．5 注入Co离子对NiFeCo／Ag颗粒膜和多层膜的巨磁电阻效应影响比较 | 第87-90页 |
| 5．6 本章小结 | 第90-92页 |
| 结论 | 第92-94页 |
| 本文的特色与创新之处 | 第94-95页 |
| 对进一步研究离子注入NiFeCo／Ag非连续多层膜巨磁电阻效应的建议 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-102页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
