| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 前言 | 第9-24页 |
| ·NOx的来源 | 第9-11页 |
| ·热力NOx | 第10页 |
| ·燃料NOx | 第10页 |
| ·激发NOx | 第10-11页 |
| ·NOx的危害 | 第11页 |
| ·限制NOx排放的相关立法 | 第11-12页 |
| ·NOx消除技术 | 第12-19页 |
| ·NOx分解技术 | 第12-13页 |
| ·NOx还原技术 | 第13-16页 |
| ·其他消除NOx技术 | 第16-19页 |
| ·低温NOx净化催化剂的研究现状 | 第19-22页 |
| ·贵金属催化剂 | 第20页 |
| ·金属氧化物催化剂 | 第20页 |
| ·分子筛催化剂 | 第20-21页 |
| ·碳基催化剂 | 第21-22页 |
| ·课题的目的和意义 | 第22-24页 |
| 第2章 实验部分 | 第24-30页 |
| ·化学试剂及气体 | 第24-25页 |
| ·催化剂的制备 | 第25页 |
| ·催化剂活性评价 | 第25-26页 |
| ·反应原料气及产物分析 | 第26-27页 |
| ·催化剂及活性炭的表征 | 第27-30页 |
| ·BET表面积和孔径分布 | 第27页 |
| ·Boehm酸碱滴定及pH测定 | 第27-28页 |
| ·热重(TG) | 第28页 |
| ·X-射线粉末衍射(XRD) | 第28页 |
| ·程序升温脱附反应(TPD-MS) | 第28页 |
| ·NO程序升温脱附(NO-TPD) | 第28页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第28-29页 |
| ·红外光谱(IR)分析 | 第29-30页 |
| 第3章 活性炭种类及催化剂制备条件的选择 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·活性炭的物理结构和化学性质 | 第31-36页 |
| ·活性炭的物理结构 | 第31-34页 |
| ·活性炭的化学性质 | 第34-36页 |
| ·催化剂的制备方法 | 第36-37页 |
| ·Cu-K-O催化剂对炭还原NO的催化性能 | 第37-40页 |
| ·催化剂焙烧温度的选择 | 第37-39页 |
| ·Cu/K比例的选择 | 第39-40页 |
| ·活性炭的选择 | 第40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 活性炭负载Cu-K催化剂对碳还原NO性能的研究 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·活性炭负载Cu-K催化剂的制备 | 第42-43页 |
| ·催化剂性能的测试 | 第43-45页 |
| ·K含量对催化剂活性的影响 | 第43-45页 |
| ·催化剂稳定性评价 | 第45页 |
| ·催化剂表征 | 第45-53页 |
| ·XPS | 第45-48页 |
| ·XRD | 第48-49页 |
| ·NO-TPD | 第49-51页 |
| ·TPSR | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 活性炭预处理对催化碳还原NO反应的影响 | 第54-67页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·活性炭预处理及催化剂制备方法 | 第54-55页 |
| ·活性炭的预处理 | 第54页 |
| ·催化剂的制备 | 第54-55页 |
| ·经预处理后活性炭的物理化学性质 | 第55-59页 |
| ·预处理后活性炭的物理性质 | 第55-56页 |
| ·预处理前后活性炭的表面化学性质 | 第56-59页 |
| ·氧化预处理活性炭负载Cu-K催化剂催化NO还原反应 | 第59-61页 |
| ·活性炭的预处理方法对负载Cu-K催化剂性能的影响 | 第59-60页 |
| ·氧化预处理活性炭负载Cu-K催化剂的性能表征 | 第60-61页 |
| ·HNO_3氧化处理对催化剂活性和稳定性的影响 | 第61-63页 |
| ·HNO_3氧化处理对催化剂活性的影响 | 第61-62页 |
| ·HNO_3氧化处理对催化剂稳定性的影响 | 第62-63页 |
| ·H_2O_2氧化处理对催化剂活性和稳定性的影响 | 第63-65页 |
| ·H_2O_2氧化处理对催化剂活性的影响 | 第63-65页 |
| ·H_2O_2氧化处理对催化剂稳定性的影响 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第6章 全文总结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
