| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·铁氧体材料的发展 | 第9-11页 |
| ·软磁铁氧体材料的应用 | 第11-14页 |
| ·软磁铁氧体在开关电源中的应用 | 第11-12页 |
| ·软磁材料在电感器件中的应用 | 第12页 |
| ·软磁铁氧体在宽频带铁氧体器件中的应用 | 第12-13页 |
| ·软磁铁氧体在抗EMI 中的应用 | 第13-14页 |
| ·软磁铁氧体在偏转扫描系统中的应用 | 第14页 |
| ·软磁铁氧体在其它方面的应用 | 第14页 |
| ·铁氧体的结构与磁性 | 第14-18页 |
| ·制备铁氧体的方法 | 第18-23页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第18-19页 |
| ·化学共沉淀法 | 第19-20页 |
| ·水热合成法 | 第20-21页 |
| ·固相球磨法 | 第21页 |
| ·自蔓延合成法 | 第21-22页 |
| ·液相燃烧法 | 第22页 |
| ·喷雾热分解法 | 第22页 |
| ·乳化液法 | 第22-23页 |
| ·低温湿镀法 | 第23页 |
| ·本论文的研究内容及意义 | 第23-25页 |
| ·本论文的研究内容 | 第23页 |
| ·本论文的研究意义 | 第23-25页 |
| 2 Ni-Zn 铁氧体薄膜的制备与表征 | 第25-36页 |
| ·理论部分 | 第25-29页 |
| ·掺杂理论的基础 | 第25页 |
| ·离子分布的一般规律 | 第25-26页 |
| ·根据吸附化学和反应机理去选择pH | 第26-27页 |
| ·薄膜中的应力和薄膜的附着力 | 第27-29页 |
| ·实验药品及仪器 | 第29-30页 |
| ·实验药品 | 第29页 |
| ·实验仪器 | 第29-30页 |
| ·制备过程 | 第30-33页 |
| ·氧化液中NaNO_2 含量的影响 | 第30页 |
| ·氧化液中CH_3COOK 代替CH_3COONH_4 的影响 | 第30-31页 |
| ·络合物对制备铁氧体薄膜的影响 | 第31页 |
| ·氧化液中加入表面活性剂的影响 | 第31页 |
| ·还原液中Fe(NH_4)_2(SO_4)_2·6H_2O代替FeCl_2·4H_2O的影响 | 第31-32页 |
| ·pH 值对制备铁氧体薄膜的影响 | 第32页 |
| ·Zn 含量对制备铁氧体薄膜的影响 | 第32页 |
| ·掺杂Co 对制备铁氧体薄膜的影响 | 第32-33页 |
| ·铁氧体薄膜的表征 | 第33-36页 |
| ·XRD 及XFD 分析 | 第33页 |
| ·形貌分析 | 第33页 |
| ·饱和磁化强度与矫顽力的测定 | 第33页 |
| ·磁导率的测定 | 第33-34页 |
| ·电阻率的测定 | 第34-36页 |
| 3 结果与讨论 | 第36-52页 |
| ·氧化液中NaNO_2 含量的影响 | 第36页 |
| ·氧化液中CH_3COOK 代替CH_3COONH_4 的影响 | 第36-37页 |
| ·络合物对制备铁氧体薄膜的影响 | 第37-40页 |
| ·氧化液中加入表面活性剂的影响 | 第40-41页 |
| ·还原液中Fe(NH_4)_2(SO_4)_2·6H_2O 代替FeCl_2·4H_2O 的影响 | 第41页 |
| ·pH 值对铁氧体薄膜的影响 | 第41-45页 |
| ·Zn 含量对铁氧体薄膜的影响 | 第45-47页 |
| ·掺杂Co 对制备铁氧体薄膜的影响 | 第47-52页 |
| 4 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表学术论文目录 | 第58页 |
