| 中文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 第一节 β-FeSi_2材料的基本性质 | 第11-16页 |
| 第二节 β-FeSi_2材料的应用前景及研究现状 | 第16-19页 |
| 第三节 β-FeSi_2材料的制备方法 | 第19-21页 |
| 第四节 选题依据和本论文内容安排 | 第21-23页 |
| 第二章 脉冲激光沉积技术(PLD)制备薄膜材料原理 | 第23-31页 |
| 第一节 PLD 技术原理及装置图 | 第23-27页 |
| 第二节 PLD 技术特点 | 第27-28页 |
| 第三节 PLD 技术工艺中影响薄膜生长的因素 | 第28-31页 |
| 第三章 β-FeSi_2薄膜的制备过程及主要测试手段 | 第31-39页 |
| 第一节 β-FeSi_2薄膜制备过程及实验设备 | 第31-33页 |
| 第二节 实验中所需要的主要材料和试剂 | 第33-34页 |
| 第三节 样品的测试表征方法 | 第34-39页 |
| 第四章 β-FeSi_2薄膜的制备及结构性能研究 | 第39-63页 |
| 第一节 溅射时间对β-FeSi_2薄膜结构性能的影响 | 第40-45页 |
| 第二节 靶基距对β-FeSi_2薄膜结构性能的影响 | 第45-52页 |
| 第三节 衬底及退火环境对β-FeSi_2薄膜结构的影响 | 第52-56页 |
| 第四节 β-FeSi_2薄膜的生长机理探究 | 第56-61页 |
| 第五节 小结 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-65页 |
| 第一节 本论文的主要研究成果 | 第63-64页 |
| 第二节 对今后工作的建议 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
