光催化反应器射流搅拌流体力学行为研究及结构优化
| 中文摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-25页 |
| ·课题的研究背景 | 第7-8页 |
| ·搅拌与混合的机理 | 第8-9页 |
| ·射流混合原理及其研究进展 | 第9-11页 |
| ·射流的结构 | 第9-10页 |
| ·射流的卷吸作用 | 第10页 |
| ·射流混合的优缺点 | 第10-11页 |
| ·射流的分类 | 第11-13页 |
| ·受限射流 | 第12页 |
| ·多孔干扰射流 | 第12-13页 |
| ·贴附射流 | 第13页 |
| ·计算流体力学(CFD)概述 | 第13-17页 |
| ·湍流现象概述 | 第13-16页 |
| ·计算流体力学中常见的数值计算方法 | 第16-17页 |
| ·计算流体力学在射流领域的应用 | 第17-19页 |
| ·计算流体力学软件概述 | 第19-21页 |
| ·CFX | 第20页 |
| ·PHONICS | 第20-21页 |
| ·STAR-CD | 第21页 |
| ·FLUENT的应用 | 第21-23页 |
| ·选题意义 | 第23-25页 |
| 第二章 射流搅拌器结构参数的确定及流场的评价方法 | 第25-33页 |
| ·光催化反应器的结构设计与论证 | 第25-28页 |
| ·光催化反应的工艺要求 | 第25页 |
| ·光催化反应器的工作原理 | 第25-26页 |
| ·光催化反应器的结构论证 | 第26-28页 |
| ·工艺操作对射流流场的要求 | 第28-30页 |
| ·流场整体湍动状态的要求 | 第28页 |
| ·光敏催化剂颗粒的无积聚、无沉积的要求 | 第28-29页 |
| ·良好的射流搅拌要求 | 第29-30页 |
| ·结构尺寸参数间的关系及对射流流场的影响 | 第30-31页 |
| ·优化计算的方法和步骤 | 第31-33页 |
| 第三章 计算模型的建立 | 第33-40页 |
| ·模型假设 | 第33页 |
| ·几何模型建立 | 第33页 |
| ·边界条件 | 第33-34页 |
| ·网格划分 | 第34-36页 |
| ·数学模型的建立 | 第36-40页 |
| 第四章 流场行为分析及影响因素 | 第40-53页 |
| ·进口流速的确定 | 第40-43页 |
| ·旋流区流场分析 | 第43-44页 |
| ·射流区流场分析 | 第44-48页 |
| ·环管以下区域流场分析 | 第48-49页 |
| ·轴面流场分析 | 第49-50页 |
| ·压力降比较 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-53页 |
| 第五章 射流孔距的优化 | 第53-61页 |
| ·旋流区流场分析 | 第53-55页 |
| ·射流区流场分析 | 第55-57页 |
| ·轴面流场分析 | 第57-58页 |
| ·压力降比较 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
