| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-37页 |
| ·前言 | 第12-13页 |
| ·纳米材料的特点 | 第13-19页 |
| ·纳米材料的定义 | 第13-14页 |
| ·纳米材料的分类 | 第14页 |
| ·纳米材料的性能 | 第14-16页 |
| ·纳米材料的热学性能 | 第14页 |
| ·纳米材料的磁性 | 第14-15页 |
| ·纳米材料的光学特性 | 第15页 |
| ·纳米材料的电特性 | 第15页 |
| ·纳米材料的化学特性 | 第15-16页 |
| ·纳米材料的机械性能 | 第16页 |
| ·纳米材料的特殊效应 | 第16-19页 |
| ·小尺寸效应 | 第16页 |
| ·量子尺寸效应 | 第16-17页 |
| ·表面效应 | 第17页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第17-18页 |
| ·库仑堵塞与量子隧穿 | 第18页 |
| ·介电限域效应 | 第18-19页 |
| ·纳米组装体系 | 第19-24页 |
| ·纳米材料的发展趋势 | 第19页 |
| ·纳米组装体系的特点及分类 | 第19-24页 |
| ·纳米结构自组装体系 | 第20-22页 |
| ·纳米人工组装体系 | 第22-24页 |
| ·纳米点及其阵列 | 第24-25页 |
| ·纳米点阵列的制备方法 | 第25-27页 |
| ·光刻合成纳米点有序阵列 | 第25页 |
| ·利用扫描隧道显微镜操纵原子制备有序阵列 | 第25-26页 |
| ·蒸发法制备有序阵列 | 第26页 |
| ·自组装生成法制备有序阵列 | 第26-27页 |
| ·模板合成法 | 第27-35页 |
| ·模板合成法的概念及意义 | 第27页 |
| ·模板合成法发展 | 第27-28页 |
| ·模板的分类 | 第28-33页 |
| ·硬模板 | 第28-29页 |
| ·软模板 | 第29-32页 |
| ·生物模板 | 第32-33页 |
| ·模板合成法 | 第33-35页 |
| ·电化学沉积 | 第33-34页 |
| ·无电沉积 | 第34页 |
| ·化学聚合 | 第34页 |
| ·溶胶-凝胶(sol-gel)方法 | 第34-35页 |
| ·化学气相沉积法(CVD法) | 第35页 |
| ·选题的目的和意义 | 第35-37页 |
| 第二章 实验 | 第37-47页 |
| ·实验原料与器材 | 第37-40页 |
| ·实验原料 | 第37-38页 |
| ·实验设备 | 第38页 |
| ·实验装置 | 第38-40页 |
| ·样品的制备 | 第40-44页 |
| ·基板的清洗工艺 | 第40-41页 |
| ·溶胶先驱体的制备 | 第41页 |
| ·BaTiO_3纳米点阵列的制备 | 第41-42页 |
| ·BaTiO_3纳米点阵列制备过程中条件的精细控制 | 第42-43页 |
| ·溶胶量的控制 | 第42页 |
| ·基板温度 | 第42-43页 |
| ·保持模板与基板呈水平状态 | 第43页 |
| ·模板与基板间距 | 第43页 |
| ·制备BaTiO_3纳米点阵列的流程图 | 第43-44页 |
| ·测试方法 | 第44-47页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第44-45页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第45页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(SEM) | 第45-47页 |
| 第三章 BaTiO_3体系涪胶凝胶化影响因素的研究 | 第47-55页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·BaTiO_3溶胶凝胶化时间的控制 | 第47-53页 |
| ·温度对凝胶化时间的影响 | 第48-49页 |
| ·pH值对凝胶化时间的影响 | 第49-50页 |
| ·溶胶浓度对凝胶化时间的影响 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 第四章 BaTiO_3纳米点阵列的表征 | 第55-74页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·BaTiO_3纳米点阵列的形成机理 | 第55-58页 |
| ·BaTiO_3纳米点阵列形貌分析 | 第58-66页 |
| ·溶剂为乙二醇甲醚时BaTiO_3纳米点阵列的结构状态 | 第58-63页 |
| ·溶剂为乙醇时BaTiO_3纳米点阵列的结构状态 | 第63-66页 |
| ·用XRD分析BaTiO_3纳米结构 | 第66-67页 |
| ·用XPS分析BaTiO_3纳米点阵列的组成和电子状态 | 第67-70页 |
| ·对Ba 3d峰的XPS图的分析 | 第67-68页 |
| ·对Ti 2p峰的XPS图的分析 | 第68-69页 |
| ·对O 1s峰的XPS图的分析 | 第69-70页 |
| ·对Si 2p峰的XPS图的分析 | 第70页 |
| ·实验过程中出现的问题及解决方法 | 第70-73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| 第五章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 研究生期间发表的学术论文 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
