| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·硬质薄膜材料的研究进展和应用前景 | 第13-16页 |
| ·硬质薄膜及其分类 | 第13-14页 |
| ·纳米多层膜 | 第14-16页 |
| ·薄膜制备技术 | 第16-17页 |
| ·本文研究的薄膜材料 | 第17-18页 |
| ·本文研究内容和意义 | 第18-19页 |
| ·研究内容 | 第18页 |
| ·研究意义 | 第18-19页 |
| 第二章 实验原理、方法和实验安排 | 第19-37页 |
| ·实验原理、方法 | 第19-27页 |
| ·离子束辅助沉积(IBAD) | 第19-24页 |
| ·磁控溅射(MS) | 第24-27页 |
| ·薄膜的结构特征测试方法 | 第27-30页 |
| ·X射线衍射(XRD)与小角X射线衍射(LA-XRD)分析 | 第27-28页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)分析 | 第28-29页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜的力学及摩擦磨损性能测试方法 | 第30-37页 |
| ·XP-2台阶仪(surface profiler) | 第30-31页 |
| ·XP纳米压痕仪(nanoindentor) | 第31-35页 |
| ·MS-T3000材料表面性能测试仪 | 第35-37页 |
| 第三章 ZrN/W多层膜的结构特征、力学性能分析 | 第37-64页 |
| ·ZrN/W多层膜的结构特征分析 | 第37-47页 |
| ·薄膜的小角X射线衍射(LA-XRD)与X射线衍射(XRD) | 第37-45页 |
| ·薄膜的俄歇电子能谱(AES)分析 | 第45-47页 |
| ·ZrN/W多层膜的力学性能分析 | 第47-61页 |
| ·厚度 | 第47-48页 |
| ·内应力 | 第48-50页 |
| ·纳米硬度及弹性模量 | 第50-54页 |
| ·膜基结合力 | 第54-59页 |
| ·纳米定位压痕 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-64页 |
| 第四章 CrN/ZrN多层膜的结构特征、力学及摩擦磨损性能分析 | 第64-77页 |
| ·CrN/ZrN多层膜的结构特征分析 | 第64-69页 |
| ·薄膜的小角X射线衍射(LA-XRD)与X射线衍射(XRD) | 第64-65页 |
| ·薄膜的俄歇电子能谱(AES)分析 | 第65-67页 |
| ·薄膜的X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第67-69页 |
| ·CrN/ZrN多层膜的力学及摩擦磨损性能分析 | 第69-75页 |
| ·厚度 | 第69-70页 |
| ·内应力 | 第70-72页 |
| ·纳米硬度及弹性模量 | 第72-74页 |
| ·磨损率和摩擦系数 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 硕士在读期间发表的论文 | 第82-84页 |
| 硕士在读期间参加的会议 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
