| 第一章 绪论 | 第1-23页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·纳米材料的基本物理效应 | 第14-15页 |
| ·量子尺寸效应 | 第14-15页 |
| ·小体积效应 | 第15页 |
| ·表面效应 | 第15页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第15页 |
| ·准一维纳米材料的制备方法 | 第15-18页 |
| ·溶液—液态—固态法 | 第16页 |
| ·热溶剂法 | 第16页 |
| ·模板法 | 第16-18页 |
| ·电化学沉积 | 第16-17页 |
| ·化学沉积 | 第17页 |
| ·化合聚合 | 第17页 |
| ·溶胶-凝胶沉积方法 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积 | 第18页 |
| ·准一维纳米结构材料的生长机理 | 第18-20页 |
| ·汽-液-固(VLS)晶体生长机制 | 第18-19页 |
| ·气-固(VS)生长机制 | 第19-20页 |
| ·催化剂诱导一维材料的生长 | 第20页 |
| ·准一维纳米材料的发展趋势 | 第20-21页 |
| ·准一维纳米材料的可控生长 | 第20-21页 |
| ·单个纳米结构单元的性能的研究 | 第21页 |
| ·准一维纳米材料为基础的纳米器件的制造 | 第21页 |
| ·本论文提出的背景及研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 阳极氧化铝模板制备工艺、表征研究 | 第23-35页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·实验方法 | 第24-25页 |
| ·实验工艺流程 | 第24-25页 |
| ·实验仪器 | 第25页 |
| ·实验材料 | 第25页 |
| ·氧化铝模板的制备 | 第25-27页 |
| ·高纯铝片的前期处理 | 第25-26页 |
| ·一次氧化及除膜 | 第26页 |
| ·二次氧化及氧化膜的剥离 | 第26页 |
| ·去除阻挡层 | 第26-27页 |
| ·扩孔 | 第27页 |
| ·实验结果及讨论 | 第27-34页 |
| ·相结构分析 | 第27-28页 |
| ·形貌分析 | 第28-31页 |
| ·氧化铝模板有序性的影响因素 | 第31-32页 |
| ·Al片热处理对有序性的影响 | 第31页 |
| ·阳极氧化电压对有序性的影响 | 第31页 |
| ·温度对有序性的影响 | 第31-32页 |
| ·其它因素对有序性的影响 | 第32页 |
| ·生长机制讨论 | 第32-34页 |
| ·由电流的变化对生长机制的讨论 | 第32-33页 |
| ·由电压的变化对生长机制的讨论 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 多孔阳极氧化铝模板的光学性质研究 | 第35-43页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·多孔阳极氧化铝模板的光吸收性质 | 第35-37页 |
| ·多孔阳极氧化铝模板的光致发光性质 | 第37-38页 |
| ·多孔阳极氧化铝模板的光致发光光谱 | 第37-38页 |
| ·多孔阳极氧化铝膜的激发谱 | 第38页 |
| ·热处理工艺对阳极氧化铝模板光学性能的影响 | 第38-42页 |
| ·热处理工艺对阳极氧化铝模板光吸收性能的影响 | 第38-40页 |
| ·热处理工艺对阳极氧化铝模板光致发光性能的影响 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 Cu、Ag纳米线及其阵列体系制备及光学性能研究 | 第43-51页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·Cu、Ag纳米线及其阵列体系的制备 | 第43-44页 |
| ·Cu、Ag纳米线有序阵列体系的形貌及相结构表征 | 第44-50页 |
| ·XRD分析 | 第44-46页 |
| ·Cu、Ag纳米线及其阵列体系形貌分析： | 第46-47页 |
| ·Cu、Ag纳米线的SAED分析： | 第47-48页 |
| ·生长机制讨论 | 第48页 |
| ·Cu、Ag纳米阵列体系的光吸收性能 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 TiO_2／Al_2O_3组装体系制备工艺、表征及光学性能研究 | 第51-59页 |
| ·前言 | 第51-52页 |
| ·实验器材 | 第52页 |
| ·化学试剂 | 第52页 |
| ·实验仪器 | 第52页 |
| ·TiO_2溶胶及TiO_2纳米线的制备 | 第52-53页 |
| ·TiO_2溶胶制备机理讨论 | 第53页 |
| ·TiO_2纳米线的结构及形貌表征 | 第53-55页 |
| ·TiO_2纳米线的XRD表征 | 第53-54页 |
| ·ZiO_2纳米线的形貌分析 | 第54-55页 |
| ·TiO_2纳米线的SAED分析： | 第55页 |
| ·TiO_2纳米线的生长机制讨论 | 第55-56页 |
| ·TiP_2／Al_2O_3组装体系阵列光致发光性能 | 第56-58页 |
| ·TiO_2／Al_2O_3组装体系阵列室温下的光致发光性能 | 第56-57页 |
| ·热处理温度对TiO_2／Al_2O_3组装体系阵列光致发光性能的影响 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
