| 第1章 综述 | 第1-15页 |
| 1．1 金刚石薄膜的结构、性质和用途 | 第7-11页 |
| 1．2 制备金刚石薄膜的CVD方法 | 第11-15页 |
| 1．2．1 热丝CVD（HFCVD）法 | 第12-13页 |
| 1．2．2 直流电弧等离子体CVD（DA-PCVD）法 | 第13页 |
| 1．2．3 射频等离子化学气相沉积（Rf-PCVD）法 | 第13页 |
| 1．2．4 微波等离子体CVD（MW-PCVD）法 | 第13-15页 |
| 第2章 微波等离子体化学气相沉积装置 | 第15-19页 |
| 2．1 2450MHz／5KW谐振腔式MPCVD装置简介 | 第15-16页 |
| 2．2 微波系统 | 第16-17页 |
| 2．3 气路系统 | 第17-18页 |
| 2．4 真空与检测系统 | 第18页 |
| 2．5 保障系统 | 第18-19页 |
| 第3章 化学气相沉积（CVD）原理及理论模型 | 第19-27页 |
| 3．1 化学气相沉积（CVD）原理 | 第19-23页 |
| 3．2 理论模型 | 第23-27页 |
| 第4章 石英玻璃上MPCVD沉积金刚石薄膜的实验 | 第27-42页 |
| 4．1 石英玻璃上生长金刚石薄膜的研究现状 | 第27-30页 |
| 4．2 影响金刚石薄膜生长的主要因素 | 第30页 |
| 4．3 衬底的预处理对金刚石生长的影响 | 第30-32页 |
| 4．4 实验参数的确定 | 第32-40页 |
| 4．4．1 甲烷／氢气的体积百分比对金刚石薄膜生长的影响 | 第33-38页 |
| 4．4．2 气压对金刚石薄膜生长的影响 | 第38-40页 |
| 4．5 实验 | 第40页 |
| 4．6 测试 | 第40-42页 |
| 第5章 实验结果分析 | 第42-49页 |
| 5．1 金刚石薄膜的表征 | 第42-49页 |
| 5．1．1 金刚石薄膜涂层的SEM分析 | 第42页 |
| 5．1．2 金刚石薄膜涂层的XRD分析 | 第42-43页 |
| 5．1．3 金刚石薄膜涂层的Raman分析 | 第43-45页 |
| 5．1．4 金刚石薄膜涂层的XPS分析 | 第45-47页 |
| 5．1．5 金刚石薄膜涂层的附着力测试 | 第47-49页 |
| 第6章 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 攻读研究生期间发表的论文 | 第55页 |
