硅基硅碳氧薄膜发光材料的制备与特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·硅基发光材料研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| ·硅基发光材料的类型 | 第10-13页 |
| ·硅基硅碳氧发光材料 | 第13-18页 |
| ·硅基硅碳氧薄膜的优势及问题 | 第13-14页 |
| ·硅基硅碳氧发光薄膜研究进展 | 第14-17页 |
| ·硅基硅碳氧发光薄膜的制备方法 | 第17-18页 |
| ·论文的研究意义、目的及内容 | 第18-23页 |
| ·论文的研究意义和目的 | 第18-20页 |
| ·论文的研究内容 | 第20页 |
| ·论文的研究方法 | 第20-22页 |
| ·论文章节安排 | 第22-23页 |
| 第二章 薄膜样品的制备及性能表征 | 第23-37页 |
| ·磁控溅射原理及设备 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射方法原理 | 第23-24页 |
| ·TXZ-5001磁控溅射镀膜机简介 | 第24-25页 |
| ·硅碳氧发光溥膜样品的制备 | 第25-29页 |
| ·基片清洗 | 第25-26页 |
| ·溅射制备样品 | 第26-27页 |
| ·快速热退火处理 | 第27-29页 |
| ·硅碳氧薄膜的表征 | 第29-36页 |
| ·AFM表征 | 第29-30页 |
| ·SEM分析及能谱仪表征 | 第30-31页 |
| ·厚度测量 | 第31-32页 |
| ·X射线衍射表征 | 第32-33页 |
| ·傅立叶红外光谱表征 | 第33-34页 |
| ·光致发光表征 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 硅碳氧薄膜的结构和发光特性研究 | 第37-55页 |
| ·工艺条件优化 | 第37-43页 |
| ·SiC靶溅射功率优化 | 第37-40页 |
| ·SiC靶溅射功率对沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| ·SiC靶溅射功率对表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| ·工作气压优化 | 第40-43页 |
| ·工作气压对沉积速率的影响 | 第40-42页 |
| ·工作气压对表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·硅碳氧薄膜的组织结构分析 | 第43-49页 |
| ·退火硅碳氧薄膜的表面形貌 | 第43-46页 |
| ·硅碳氧薄膜AFM表征 | 第43-44页 |
| ·硅碳氧薄膜SEM及能谱分析 | 第44-46页 |
| ·硅碳氧薄膜元素键合状态分析 | 第46-48页 |
| ·硅碳氧薄膜晶相分析 | 第48-49页 |
| ·硅碳氧薄膜的发光特性研究 | 第49-53页 |
| ·硅碳氧薄膜光致发光谱分析 | 第49-51页 |
| ·硅碳氧薄膜发光机理探讨 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 Al掺杂硅碳氧薄膜的结构和发光特性研究 | 第55-73页 |
| ·Al掺杂剂量对硅碳氧薄膜特性的影响 | 第55-57页 |
| ·Al掺杂剂量对薄膜表面形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·Al掺杂剂量对薄膜发光特性的影响 | 第56-57页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜组织结构分析 | 第57-65页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜的表面形貌 | 第57-61页 |
| ·Al掺杂碳氧薄膜AFM表征 | 第57-59页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜SEM及能谱分析 | 第59-61页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜元素键合状态分析 | 第61-63页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜晶相分析 | 第63-65页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜的发光特性研究 | 第65-70页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜光致发光谱分析 | 第65-66页 |
| ·Al掺杂硅碳氧薄膜发光机理探讨 | 第66-70页 |
| ·本章小结 | 第70-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 攻读学位期间的主要研究成果 | 第87-88页 |
