| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-26页 |
| ·UV 固化技术 | 第8-13页 |
| ·UV 固化机理 | 第8页 |
| ·UV 体系组成 | 第8-13页 |
| ·光致抗蚀剂 | 第13-16页 |
| ·光致抗蚀剂种类 | 第13-14页 |
| ·光致抗蚀剂组成 | 第14页 |
| ·光刻过程 | 第14-15页 |
| ·光致抗蚀剂的发展 | 第15-16页 |
| ·超支化聚合物 | 第16-23页 |
| ·超支化聚合物的合成方法 | 第17-19页 |
| ·超支化聚合物的表征 | 第19-20页 |
| ·超支化聚合物的应用 | 第20-23页 |
| ·立题依据 | 第23页 |
| ·主要内容 | 第23页 |
| ·创新点 | 第23-26页 |
| 第二章 巯基链转移支化聚合法合成超支化聚合物及其GMA 改性研究 | 第26-40页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·实验部分 | 第26-30页 |
| ·实验试剂 | 第26-27页 |
| ·仪器与设备 | 第27页 |
| ·实验步骤 | 第27-29页 |
| ·测试表征 | 第29-30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-38页 |
| ·VBT 的结构表征 | 第30-31页 |
| ·HBP 的结构和性能 | 第31-35页 |
| ·G-HBP 的结构和性能 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 G-HBP 在负性光致抗蚀剂方面的应用研究 | 第40-46页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·主要原料 | 第41页 |
| ·仪器与设备 | 第41页 |
| ·光致抗蚀剂配方 | 第41-42页 |
| ·性能测试 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-44页 |
| ·光引发体系 | 第42-43页 |
| ·成像效果 | 第43-44页 |
| ·漆膜性能 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 超支化聚氨酯的合成及其在负性光致抗蚀剂方面的应用研究 | 第46-57页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验部分 | 第46-50页 |
| ·主要原料 | 第46页 |
| ·仪器与设备 | 第46-47页 |
| ·实验步骤 | 第47-48页 |
| ·测试表征 | 第48-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-55页 |
| ·产物结构分析 | 第50-52页 |
| ·聚合物热性能 | 第52-53页 |
| ·UV-HBPU 在光致抗蚀剂中的应用 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |
