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高电压强电流下GaAs光电导开关的损伤及寿命分析

摘要第1-4页
Abstract第4-8页
1 绪论第8-17页
   ·研究背景及意义第8-9页
   ·光电导开关的发展历史第9-10页
   ·光电导开关的应用前景第10-11页
   ·光电导开关的基本结构第11-13页
   ·光电导开关的两种工作模式第13-15页
     ·光电导开关的线性工作模式及其特性第13-14页
     ·光电导开关的非线性工作模式及其特性第14-15页
   ·本论文的主要研究内容第15-16页
   ·本章小结第16-17页
2 光电导开关的制作第17-29页
   ·光电导开关芯片材料的选取第17-18页
   ·光电导开关的绝缘封装第18-19页
   ·光电导开关电极的设计第19-21页
     ·电极间隙的设计第19-20页
     ·电极结构的设计第20页
     ·电极刻蚀的设计第20-21页
   ·欧姆接触的机理第21-25页
     ·金属和半导体接触第21-23页
     ·电流输运机理第23-25页
   ·光电导开关的制备工艺第25-27页
     ·掺杂工艺第25页
     ·金属化工艺第25-26页
     ·退火工艺第26-27页
   ·电极欧姆接触的判定第27-28页
   ·本章小结第28-29页
3 光电导开关损伤机理的研究第29-40页
   ·光电导开关的击穿类型第29页
   ·影响开关击穿的因素第29-31页
   ·暗态条件下的击穿第31-32页
   ·不可恢复性损伤第32-36页
     ·电损伤机理第32-34页
     ·热损伤机理第34-35页
     ·光损伤机理第35-36页
   ·可恢复性损伤第36-38页
   ·电极损伤的机理分析第38-39页
   ·本章小结第39-40页
4 光电导开关的寿命分析第40-55页
   ·器件寿命的衡量标准第40页
   ·光电导开关的寿命实验第40-42页
   ·丝状电流性质的分析第42-46页
     ·丝状电流密度及分布第42-44页
     ·光电导开关的流注理论第44-45页
     ·流注理论对丝状电流性质的分析第45-46页
   ·开关损伤的寿命分析第46-48页
     ·开关损伤的类型第46-47页
     ·提高开关寿命的方案第47-48页
   ·光电导开关和气体开关结合的组合开关第48-51页
     ·单一光电导开关实验第49页
     ·光电导开关和气体开关的组合开关实验第49-50页
     ·光电导开关和气体开关的组合开关的机理分析第50-51页
   ·双层光电导开关串联的组合开关第51-54页
     ·单层光电导开关实验第51-52页
     ·双层光电导开关串联的组合开关实验第52-53页
     ·双层光电导开关串联的组合开关的机理分析第53-54页
   ·本章小结第54-55页
5 结论及工作展望第55-57页
   ·结论第55-56页
   ·工作展望第56-57页
致谢第57-58页
参考文献第58-62页
附录第62页

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