| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-13页 |
| 第一章绪论 | 第13-30页 |
| 1.1引言 | 第13-14页 |
| 1.2半导体光解水概述 | 第14-15页 |
| 1.2.1半导体光解水的基本原理 | 第14-15页 |
| 1.3石墨相氮化碳（g-C3N4）概述 | 第15-28页 |
| 1.3.1g-C3N4的合成与性质 | 第16页 |
| 1.3.2g-C3N4的改性 | 第16-22页 |
| 1.3.3g-C3N4的应用 | 第22-28页 |
| 1.4本课题选题依据及研究内容 | 第28-30页 |
| 1.4.1本课题选题依据 | 第28页 |
| 1.4.2本课题研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章过渡金属离子嵌入二维g-C3N4纳米片提高光解水制氢性能 | 第30-45页 |
| 2.1引言 | 第30-31页 |
| 2.2实验部分 | 第31-33页 |
| 2.2.1实验试剂和实验仪器 | 第31-32页 |
| 2.2.2光催化剂的合成 | 第32-33页 |
| 2.2.3光催化制氢测试 | 第33页 |
| 2.2.4催化剂的光电测试 | 第33页 |
| 2.3结果与讨论 | 第33-44页 |
| 2.3.1形貌表征 | 第33-34页 |
| 2.3.2结构表征 | 第34-35页 |
| 2.3.3X射线光电子能谱分析（XPS） | 第35-37页 |
| 2.3.4比表面分析（BET） | 第37页 |
| 2.3.5紫外可见漫反射光谱分析（DRS） | 第37-38页 |
| 2.3.6光电化学分析 | 第38-39页 |
| 2.3.7光催化制氢性能分析 | 第39-41页 |
| 2.3.8ESR分析 | 第41-42页 |
| 2.3.9光催化机理分析 | 第42-44页 |
| 2.4本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章P、S、O共掺杂超薄g-C3N4纳米片的合成及增强的光解水制氢 | 第45-57页 |
| 3.1引言 | 第45-46页 |
| 3.2实验部分 | 第46-47页 |
| 3.2.1实验试剂和实验仪器 | 第46页 |
| 3.2.2光催化剂的合成 | 第46-47页 |
| 3.2.3光催化制氢测试 | 第47页 |
| 3.2.4催化剂的光电测试 | 第47页 |
| 3.3结果与讨论 | 第47-56页 |
| 3.3.1形貌表征 | 第47-48页 |
| 3.3.2结构表征 | 第48-49页 |
| 3.3.3X射线光电子能谱分析（XPS） | 第49-51页 |
| 3.3.4比表面分析（BET） | 第51页 |
| 3.3.5紫外可见漫反射光谱分析（DRS） | 第51-52页 |
| 3.3.6光电化学分析 | 第52-53页 |
| 3.3.7光催化制氢性能分析 | 第53-54页 |
| 3.3.8ESR分析 | 第54-55页 |
| 3.3.9光催化机理分析 | 第55-56页 |
| 3.4本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章一维g-C3N4纳米管的可控合成及复合材料的构筑及光解水制氢性能研究 | 第57-67页 |
| 4.1引言 | 第57-58页 |
| 4.2实验部分 | 第58-59页 |
| 4.2.1实验试剂和实验仪器 | 第58页 |
| 4.2.2光催化剂的合成 | 第58页 |
| 4.2.3光催化制氢测试 | 第58-59页 |
| 4.2.4催化剂的光电测试 | 第59页 |
| 4.3结果与讨论 | 第59-65页 |
| 4.3.1形貌表征 | 第59页 |
| 4.3.2结构表征 | 第59-60页 |
| 4.3.3X射线光电子能谱分析（XPS） | 第60-62页 |
| 4.3.4光催化制氢性能分析 | 第62-63页 |
| 4.3.5紫外可见漫反射光谱分析（DRS） | 第63-64页 |
| 4.3.6光电化学分析 | 第64-65页 |
| 4.3.7光催化机理分析 | 第65页 |
| 4.4本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章结论与展望 | 第67-69页 |
| 5.1展望 | 第67-68页 |
| 5.2结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间的主要科研成果 | 第82页 |
