| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 1 文献综述 | 第12-37页 |
| ·概述 | 第12-24页 |
| ·羧酸及其衍生物到醇类化合物的还原反应 | 第12-14页 |
| ·亚砜类化合物到硫醚的脱氧还原反应 | 第14-17页 |
| ·芳香酮类化合物到芳香烷烃的脱氧还原反应 | 第17-19页 |
| ·二硫化物到硫醇、硫酚类化合物的还原反应 | 第19-20页 |
| ·硼氢化物复合体系下芳硝基化合物的还原反应 | 第20-22页 |
| ·硼氢化物复合体系下的脱保护及选择性还原反应 | 第22-24页 |
| ·硼氢化物与不同添加剂形成的复合还原体系 | 第24-34页 |
| ·与金属氯化物形成的复合还原体系 | 第24-27页 |
| ·与质子酸形成的复合还原体系 | 第27-28页 |
| ·与卤素形成的复合还原体系 | 第28-30页 |
| ·与金属盐及某些化合物形成的配体复合还原体系 | 第30-32页 |
| ·与其它添加剂形成的复合还原体系 | 第32-34页 |
| ·四氯化铪在有机合成反应中的应用 | 第34-35页 |
| ·论文的选题依据及构思 | 第35-37页 |
| 2 HfCl_4/硼氢化物体系下羧酸及其衍生物的还原反应 | 第37-65页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·实验部分 | 第38-44页 |
| ·原料与试剂 | 第38-39页 |
| ·实验仪器 | 第39页 |
| ·部分还原底物的制备与表征 | 第39-41页 |
| ·HfCl_4/硼氢化物体系还原羧酸及其衍生物的实验步骤 | 第41-42页 |
| ·还原产物的结构表征 | 第42-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-63页 |
| ·HfCl_4/KBH_4体系下羧酸及其衍生物的还原反应 | 第44-52页 |
| ·HfCl_4/NaBH_4体系下羧酸及其衍生物的还原反应 | 第52-60页 |
| ·HfCl_4/硼氢化物体系下羧酸及其衍生物还原机理的探讨 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 3 HfCl_4/硼氢化物体系下亚砜类化合物的还原反应 | 第65-90页 |
| ·引言 | 第65-66页 |
| ·实验部分 | 第66-74页 |
| ·原料与试剂 | 第66-67页 |
| ·实验仪器 | 第67页 |
| ·部分还原底物的制备与表征 | 第67-69页 |
| ·纳米氧化铪的制备与XRD表征 | 第69-71页 |
| ·HfCl_4/硼氢化物体系还原亚砜类化合物的实验步骤 | 第71-72页 |
| ·还原产物的结构表征 | 第72-74页 |
| ·结果与讨论 | 第74-88页 |
| ·HfCl_4/KBH_4体系下亚砜类化合物的还原反应 | 第74-80页 |
| ·HfCl_4/NaBH_4体系下亚砜类化合物的还原反应 | 第80-86页 |
| ·HfCl_4/硼氢化物体系下亚砜类化合物的还原机理假设 | 第86-87页 |
| ·砜类化合物的微波辅助还原反应 | 第87-88页 |
| ·本章小结 | 第88-90页 |
| 4 HfCl_4/硼氢化物体系下其它底物的还原反应 | 第90-107页 |
| ·引言 | 第90页 |
| ·实验部分 | 第90-100页 |
| ·原料与试剂 | 第90-92页 |
| ·实验仪器 | 第92页 |
| ·部分还原底物的制备与表征 | 第92-98页 |
| ·HfCl_4/硼氢化物体系还原其它底物的实验步骤 | 第98-99页 |
| ·还原产物的结构表征 | 第99-100页 |
| ·结果与讨论 | 第100-106页 |
| ·HfCl_4/KBH_4体系下部分底物的还原及选择性还原反应 | 第100-104页 |
| ·HfCl_4/硼氢化物体系下二苯甲酮的还原反应 | 第104-105页 |
| ·HfCl_4/硼氢化物体系下其它含硫底物的还原反应 | 第105-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 结论 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-121页 |
| 附录A 附录内容名称 | 第121-125页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126-127页 |
| 作者简介 | 第127-129页 |
