α-Sn外延薄膜的性能调控及输运性质研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 拓扑材料简介 | 第11-17页 |
| 1.1.1 拓扑绝缘体 | 第11-14页 |
| 1.1.2 拓扑半金属 | 第14-16页 |
| 1.1.3 拓扑材料的发展和应用前景 | 第16-17页 |
| 1.2 灰锡(α-Sn)的研究背景 | 第17-27页 |
| 1.2.1 灰锡(α-Sn)的早期研究 | 第17-19页 |
| 1.2.2 灰锡(α-Sn)的研究现状 | 第19-27页 |
| 1.2.2.1 理论预测的拓扑性质 | 第19-23页 |
| 1.2.2.2 锡烯 | 第23-25页 |
| 1.2.2.3 实验上的相关进展 | 第25-27页 |
| 1.3 目前存在的问题 | 第27页 |
| 1.4 本论文的研究目的和主要内容 | 第27-29页 |
| 第二章 分子束外延技术和相关表征手段 | 第29-41页 |
| 2.1 分子束外延技术 | 第29-33页 |
| 2.1.1 分子束外延系统的基本构造 | 第29-31页 |
| 2.1.2 分子束外延技术的基本原理 | 第31-32页 |
| 2.1.3 反射式高能电子衍射 | 第32-33页 |
| 2.2 X射线衍射 | 第33-34页 |
| 2.3 拉曼光谱 | 第34-35页 |
| 2.4 电学表征原理 | 第35-39页 |
| 2.4.1 电极的欧姆接触 | 第36-37页 |
| 2.4.2 四线法和范德堡法 | 第37页 |
| 2.4.3 霍尔效应测量 | 第37-38页 |
| 2.4.4 低温强磁场条件 | 第38-39页 |
| 2.5 磁学表征原理 | 第39-41页 |
| 第三章 α-Sn样品的结构及其热稳定性 | 第41-53页 |
| 3.1 α-Sn样品的结构 | 第41-47页 |
| 3.1.1 衬底的选择 | 第41页 |
| 3.1.2 样品结构 | 第41-47页 |
| 3.2 α-Sn外延薄膜的热稳定性 | 第47-51页 |
| 3.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 α-Sn样品的磁阻性质 | 第53-65页 |
| 4.1 纵向磁阻特性 | 第53-60页 |
| 4.1.1 巨磁阻效应和非周期振荡 | 第53-58页 |
| 4.1.2 变角度磁阻 | 第58-60页 |
| 4.1.3 B类样品的磁阻 | 第60页 |
| 4.2 横向磁阻特性 | 第60-63页 |
| 4.3 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 α-Sn样品的超导电性 | 第65-85页 |
| 5.1 α-Sn薄膜中的超导电性 | 第65-78页 |
| 5.1.1 多重超导转变 | 第66-67页 |
| 5.1.2 超导转变的时间效应 | 第67-69页 |
| 5.1.3 超导转变的临界行为 | 第69-73页 |
| 5.1.4 可能存在的超导相 | 第73-77页 |
| 5.1.4.1 β-Sn | 第73-74页 |
| 5.1.4.2 α-Sn | 第74页 |
| 5.1.4.3 In-Sn合金 | 第74-75页 |
| 5.1.4.4 氧化物 | 第75-77页 |
| 5.1.5 应力对超导行为的调控 | 第77-78页 |
| 5.2 α-Sn薄膜的迈斯纳效应 | 第78-83页 |
| 5.3 本章小结 | 第83-85页 |
| 第六章 总结与展望 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-103页 |
| 硕士期间取得的成果 | 第103-105页 |
| 致谢 | 第105-107页 |
