| 摘要 | 第11-12页 |
| Abstract | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-49页 |
| 1.1 引言 | 第14页 |
| 1.2 低碳醉简介 | 第14-31页 |
| 1.2.1 低碳醇的应用及经济性 | 第15-17页 |
| 1.2.2 低碳醇合成 | 第17-21页 |
| 1.2.3 合成低碳醇催化剂体系 | 第21-26页 |
| 1.2.4 合成低碳醇的反应机理 | 第26-31页 |
| 1.3 氧化钼基催化剂的研究进展 | 第31-34页 |
| 1.3.1 制备方法 | 第31-32页 |
| 1.3.2 载体 | 第32-33页 |
| 1.3.3 金属助剂 | 第33-34页 |
| 1.3.4 其他 | 第34页 |
| 1.4 页硅酸物种 | 第34-38页 |
| 1.4.1 页硅酸物种的结构及性质 | 第34-37页 |
| 1.4.2 页硅酸镍的应用 | 第37-38页 |
| 1.5 论文构思与目的 | 第38-39页 |
| 1.6 论文的组成 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-49页 |
| 第二章 实验部分 | 第49-59页 |
| 2.1 主要气体和试剂 | 第49-50页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第50-51页 |
| 2.2.1 蒸氨法制备催化剂 | 第50-51页 |
| 2.2.2 沉积沉淀法制备的催化剂 | 第51页 |
| 2.3 催化剂活性评价和计算方法 | 第51-52页 |
| 2.4 产物分析计算方法 | 第52-55页 |
| 2.4.1 转化率 | 第53页 |
| 2.4.2 选择性 | 第53-54页 |
| 2.4.3 时空产率的计算 | 第54-55页 |
| 2.5 催化剂物化性能表征 | 第55-58页 |
| 2.5.1 低温N_2物理吸脱附 | 第55页 |
| 2.5.2 X-射线粉末衍射(XRD) | 第55-56页 |
| 2.5.3 程序升温还原(H_2-TPR) | 第56页 |
| 2.5.4 程序升温脱附(TPD) | 第56页 |
| 2.5.5 热重分析(TG) | 第56-57页 |
| 2.5.6 透射电子显微镜(TEM) | 第57页 |
| 2.5.7 X-射线光电子能谱(XPS) | 第57页 |
| 2.5.8 X-射线荧光光谱分析(XRF) | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第三章 K促页硅酸镍钼催化剂上合成气制低碳醇的研究 | 第59-74页 |
| 3.1 引言 | 第59-60页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第60-70页 |
| 3.2.1 反应条件初步探索 | 第60-62页 |
| 3.2.2 催化剂金属含量优化 | 第62-64页 |
| 3.2.3 反应条件的优化 | 第64-68页 |
| 3.2.4 不同方法制备的Mo基催化剂的催化性能 | 第68页 |
| 3.2.5 催化剂稳定性的考察 | 第68-70页 |
| 3.3 本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 第四章 K促页硅酸镍钼催化剂的表征 | 第74-89页 |
| 4.1 引言 | 第74页 |
| 4.2 催化剂物化性能表征 | 第74-86页 |
| 4.2.1 物理化学性质 | 第74-75页 |
| 4.2.2 催化剂X-射线粉末衍射表征 | 第75-77页 |
| 4.2.3 催化剂H_2-TPR表征 | 第77-78页 |
| 4.2.4 催化剂CO_2-TPD表征 | 第78-79页 |
| 4.2.5 催化剂CO-TPD表征 | 第79-80页 |
| 4.2.6 催化剂XPS表征 | 第80-83页 |
| 4.2.7 催化剂TEM表征 | 第83-85页 |
| 4.2.8 催化剂TG表征 | 第85-86页 |
| 4.3 本章小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 第五章 全文总结 | 第89-91页 |
| 硕士期间发表论文目录 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |