| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 ZnO的晶体结构与基本性能 | 第10-15页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.2.2 ZnO的基本性能 | 第12-15页 |
| 1.3 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的基本性能与研究进展 | 第15-23页 |
| 1.3.1 MgO的晶体结构与物理特性 | 第15-16页 |
| 1.3.2 Zn_(1-x)Mg_xO的晶体结构 | 第16-17页 |
| 1.3.3 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的制备方法 | 第17-21页 |
| 1.3.4 Sol-gel法制备Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的研究进展和面临的挑战 | 第21-23页 |
| 1.4 研究目的与主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 溶胶-凝胶法制备Zn_(1-x)Mg_xO薄膜及其表征方法 | 第25-32页 |
| 2.1 实验药品与仪器 | 第25-26页 |
| 2.2 溶胶-凝胶法制备Zn_(1-x)Mg_xO薄膜 | 第26-29页 |
| 2.2.1 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜材料的制备 | 第26-29页 |
| 2.2.2 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜材料电极的制备 | 第29页 |
| 2.3 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的物相结构及显微结构表征 | 第29-30页 |
| 2.4 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的光学性能与电性能表征 | 第30-32页 |
| 第3章 低Mg含量Zn_(1-x)Mg_xO(x≤0.3)薄膜特性研究 | 第32-43页 |
| 3.1 薄膜厚度对ZnO物相结构与光学性能的影响 | 第32-35页 |
| 3.2 稳定剂类型对低Mg含量Zn_(1-x)Mg_xO薄膜特性的影响 | 第35-41页 |
| 3.2.1 稳定剂乙醇胺对低Mg含量Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的影响 | 第35-38页 |
| 3.2.2 稳定剂二乙醇胺对低Mg含量Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的影响 | 第38-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 高Mg含量Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的制备及特性研究 | 第43-54页 |
| 4.1 Zn_(0.65)Mg_(0.35)O和Zn_(0.3)Mg_(0.7)O薄膜相组成及透过光谱分析 | 第43-47页 |
| 4.2 ZnO和Zn_(0.5)Mg_(0.5)O干凝胶的差热分析 | 第47-48页 |
| 4.3 退火温度对Zn_(0.5)Mg_(0.5)O薄膜的相组成及紫外-可见透过光谱的影响 | 第48-50页 |
| 4.4 Mg含量对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光学带隙调节的影响 | 第50-51页 |
| 4.5 Zn_(0.5)Mg_(0.5)O薄膜的电学性能 | 第51-52页 |
| 4.6 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 缓冲层类型对高Mg含量Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的影响 | 第54-64页 |
| 5.1 基于纯ZnO及Zn_(0.8)Mg_(0.2)O缓冲层制备的Zn_(0.5)Mg_(0.5)O薄膜 | 第54-57页 |
| 5.2 基于浓度梯度缓冲层制备的高Mg含量Zn_(1-x)Mg_xO薄膜 | 第57-62页 |
| 5.3 本章小结 | 第62-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 硕士期间发表论文 | 第71页 |
