| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 光腐蚀研究现状及其研究方法 | 第8-11页 |
| 1.2.1 光电化学方法 | 第8-9页 |
| 1.2.2 腐蚀产物对光响应的影响 | 第9-11页 |
| 1.3 光生阴极保护涂层研究现状 | 第11-15页 |
| 1.3.1 光生阴极保护机理 | 第11-12页 |
| 1.3.2 光生阴极保护涂层发展现状 | 第12-15页 |
| 1.4 本论文的研究内容及思路 | 第15-17页 |
| 第2章 实验设备和表征方法 | 第17-23页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第17-18页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第17页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第17-18页 |
| 2.2 光腐蚀行为研究实验 | 第18-20页 |
| 2.2.1 试样处理 | 第18-19页 |
| 2.2.2 电化学测试 | 第19-20页 |
| 2.2.3 腐蚀产物表征 | 第20页 |
| 2.3 氧化亚铜薄膜制备实验 | 第20-23页 |
| 2.3.1 产物表征 | 第20-21页 |
| 2.3.2 电化学测试 | 第21-23页 |
| 第3章 光腐蚀行为研究 | 第23-41页 |
| 3.1 原位光照对碳钢和不锈钢腐蚀产物形貌的影响 | 第23-24页 |
| 3.2 原位光照对碳钢和不锈钢表面腐蚀产物组成的影响 | 第24-30页 |
| 3.2.1 不同钢表面腐蚀产物的拉曼光谱分析 | 第24-26页 |
| 3.2.2 不同钢表面腐蚀产物的红外光谱分析 | 第26-27页 |
| 3.2.3 不同钢表面腐蚀产物的XPS光电子能谱分析 | 第27-30页 |
| 3.3 原位光照对不同钢表面电化学行为的影响 | 第30-37页 |
| 3.3.1 不同材质钢的光电压结果分析 | 第30-31页 |
| 3.3.2 不同材质钢的极化曲线结果分析 | 第31-33页 |
| 3.3.3 不同材质钢的阻抗结果分析 | 第33-35页 |
| 3.3.4 不同材质钢的M-S结果分析 | 第35-37页 |
| 3.4 模拟海洋大气环境下不同钢表面腐蚀产物光照响应模型 | 第37-40页 |
| 3.4.1 Q450耐候钢表面腐蚀产物的光照响应机制 | 第38-39页 |
| 3.4.2 316L不锈钢表面腐蚀产物的光照响应机制 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 氧化亚铜薄膜的制备及其光生阴极保护应用 | 第41-62页 |
| 4.1 n型氧化亚铜薄膜制备 | 第41页 |
| 4.2 沉积溶液pH值对氧化亚铜薄膜性能的影响 | 第41-50页 |
| 4.2.1 溶液pH值对氧化亚铜物相结构的影响 | 第41-43页 |
| 4.2.2 溶液pH值对氧化亚铜形貌的影响 | 第43-46页 |
| 4.2.3 溶液pH值对氧化亚铜半导体能带结构的影响 | 第46页 |
| 4.2.4 溶液pH值对氧化亚铜薄膜光电性能的影响 | 第46-50页 |
| 4.3 沉积电位对氧化亚铜薄膜性能的影响 | 第50-60页 |
| 4.3.1 沉积电位对氧化亚铜物相结构的影响 | 第50-54页 |
| 4.3.2 沉积电位对氧化亚铜形貌的影响 | 第54-56页 |
| 4.3.3 沉积电位对氧化亚铜半导体能带结构的影响 | 第56页 |
| 4.3.4 沉积电位对氧化亚铜薄膜光电性能的影响 | 第56-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
