| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第16-20页 |
| 1.1 研究背景和现状 | 第16-17页 |
| 1.2 多弧离子镀的基本原理及设备结构 | 第17-19页 |
| 1.3 研究思路及目标 | 第19-20页 |
| 第二章 大颗粒及磁过滤装置理论分析 | 第20-26页 |
| 2.1 大颗粒的产生及控制 | 第20-22页 |
| 2.1.1 大颗粒的产生及输运 | 第20-21页 |
| 2.1.2 大颗粒的控制 | 第21-22页 |
| 2.2 磁过滤装置的基本理论 | 第22-23页 |
| 2.2.1 磁过滤装置的工作原理 | 第22页 |
| 2.2.2 磁过滤装置的分类 | 第22-23页 |
| 2.3 磁过滤装置的工作效率 | 第23-26页 |
| 2.3.1 磁过滤装置的大颗粒去除情况 | 第23-24页 |
| 2.3.2 磁过滤装置的离子传输效率 | 第24-26页 |
| 第三章 COMSOL理论建模及分析 | 第26-44页 |
| 3.1 COMSOL Multiphysics 5.3软件介绍 | 第26-27页 |
| 3.2 磁过滤装置中带电粒子模型建立 | 第27-28页 |
| 3.2.1 带电粒子在磁场中的运动特性 | 第27-28页 |
| 3.2.2 带电粒子模型建立 | 第28页 |
| 3.3 磁过滤装置模型建立 | 第28-36页 |
| 3.3.1 磁过滤装置建模相关理论基础 | 第29-32页 |
| 3.3.2 磁过滤装置的建模 | 第32-36页 |
| 3.4 磁场、电场及粒子运动仿真结果分析 | 第36-42页 |
| 3.4.1 磁过滤装置磁场分布情况 | 第36-38页 |
| 3.4.2 电流对磁场强度的影响 | 第38-40页 |
| 3.4.3 磁过滤装置电场分布情况 | 第40-41页 |
| 3.4.4 磁过滤装置中带电粒子运动情况 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 磁过滤装置传输效率研究 | 第44-52页 |
| 4.1 磁过滤装置线圈电流对传输效率的影响 | 第44-46页 |
| 4.2 磁过滤装置偏压对传输效率的影响 | 第46-48页 |
| 4.3 磁过滤装置挡板孔径对传输效率的影响 | 第48-49页 |
| 4.4 粒子入射角度对传输效率的影响 | 第49-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 90°弯管磁过滤装置实验和薄膜分析 | 第52-65页 |
| 5.1 四面体非晶碳(ta-C)膜 | 第52-53页 |
| 5.2 90 °弯管过滤装置实验 | 第53-55页 |
| 5.2.1 磁过滤多弧离子镀设备 | 第53-54页 |
| 5.2.2 磁过滤装置传输效率实验 | 第54页 |
| 5.2.3 ta-C薄膜制备实验 | 第54-55页 |
| 5.3 90 °弯管过滤装置参数对其效率影响的实验验证 | 第55-58页 |
| 5.3.1 弯管参数对传输效率影响的实验验证 | 第55-57页 |
| 5.3.2 实验与仿真结果的分析 | 第57-58页 |
| 5.4 90 °弯管磁过滤装置参数对大颗粒去除效果的影响 | 第58-62页 |
| 5.4.1 线圈电流对大颗粒滤除效果的影响 | 第58-60页 |
| 5.4.2 电弧源电流对大颗粒滤除效果的影响 | 第60-61页 |
| 5.4.3 机械挡板孔径对大颗粒滤除效果的影响 | 第61-62页 |
| 5.5 优化参数下ta-C薄膜性能分析 | 第62-64页 |
| 5.5.1 薄膜的键价结构 | 第62-63页 |
| 5.5.2 薄膜硬度与表面质量 | 第63-64页 |
| 5.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 全文总结 | 第65-66页 |
| 6.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第72-73页 |
