摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 含铁废水处理概述 | 第11-13页 |
1.2.1 含铁废水对环境的危害 | 第11-12页 |
1.2.2 国内外含铁废水研究进展 | 第12-13页 |
1.3 离子印迹技术研究进展 | 第13-18页 |
1.3.1 简介 | 第13-14页 |
1.3.2 离子印迹技术的基本原理 | 第14-17页 |
1.3.3 离子印迹材料的基本方法 | 第17页 |
1.3.4 离子印迹材料的优点与应用 | 第17-18页 |
1.4 本文研究的背景、意义及内容 | 第18-21页 |
1.4.1 研究背景 | 第18-19页 |
1.4.2 本课题研究的内容及意义 | 第19-21页 |
第二章 铁离子印迹材料IIP-MPMS/SiO_2的制备及表征 | 第21-31页 |
2.1 引言 | 第21页 |
2.2 实验部分 | 第21-24页 |
2.2.1 实验仪器 | 第21-22页 |
2.2.2 实验试剂 | 第22页 |
2.2.3 铁离子印迹材料IIP-MPMS/SiO_2的制备 | 第22-23页 |
2.2.4 制备工艺条件优化 | 第23-24页 |
2.2.5 印迹材料的表征方法 | 第24页 |
2.3 结果与讨论 | 第24-30页 |
2.3.1 确定制备条件 | 第24-27页 |
2.3.2 材料的表征 | 第27-30页 |
2.4 本章小结 | 第30-31页 |
第三章 铁离子印迹材料IIP-PMAA/SiO_2的制备及表征 | 第31-41页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 实验部分 | 第31-34页 |
3.2.1 实验仪器 | 第31-32页 |
3.2.2 实验试剂 | 第32页 |
3.2.3 铁离子印迹材料IIP-PMAA/SiO_2的制备方法 | 第32-33页 |
3.2.4 印迹硅胶IIP-PMAA/SiO_2的制备条件优化 | 第33页 |
3.2.5 印迹硅胶IIP-PMAA/SiO_2的表征方法 | 第33-34页 |
3.3 结果与讨论 | 第34-38页 |
3.3.1 确定制备条件 | 第34-37页 |
3.3.2 材料的表征 | 第37-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-41页 |
第四章 两种印迹材料的性能测试 | 第41-55页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 实验部分 | 第41-44页 |
4.2.1 实验仪器 | 第41页 |
4.2.2 实验试剂 | 第41-42页 |
4.2.3 考察印迹材料对铁离子的吸附特性 | 第42页 |
4.2.4 考察印迹材料对铁离子的选择特性 | 第42-43页 |
4.2.5 考察印迹材料的重复利用性 | 第43页 |
4.2.6 考察印迹材料的吸附机理 | 第43-44页 |
4.3 结果与讨论 | 第44-54页 |
4.3.1 印迹材料与Fe~(3+)的结合能力研究 | 第44-49页 |
4.3.2 印迹硅胶对铁离子吸附选择性 | 第49-51页 |
4.3.3 印迹硅胶的重复利用性 | 第51-52页 |
4.3.4 印迹材料的吸附机理 | 第52-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-55页 |
第五章 总结 | 第55-57页 |
5.1 结论 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-64页 |
附录 (攻读学位期间的主要成果) | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |