摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第14-23页 |
1.1 前言 | 第14页 |
1.2 光催化的基本过程及原理 | 第14-19页 |
1.2.1 光生电子和空穴 | 第15-16页 |
1.2.2 影响载流子迁移的因素 | 第16-17页 |
1.2.3 利用载流子光催化降解污染物的原理 | 第17-19页 |
1.3 g-C_3N_4光催化材料 | 第19-21页 |
1.3.1 g-C_3N_4的结构和性质 | 第19页 |
1.3.2 提高g-C_3N_4光催化活性的方法 | 第19-21页 |
1.4 本论文的研究内容、创新之处以及研究意义 | 第21-23页 |
第二章 实验方法 | 第23-29页 |
2.1 化学试剂 | 第23页 |
2.2 实验仪器 | 第23-24页 |
2.3 基本物性表征 | 第24-27页 |
2.3.1 粉末X射线衍射测试(XRD) | 第24-25页 |
2.3.2 比表面积和孔径分析(BET和BJH) | 第25页 |
2.3.3 场发射扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第25页 |
2.3.4 X射线光电子能谱测试(XPS) | 第25页 |
2.3.5 紫外-可见吸收光谱(UV-vis) | 第25-26页 |
2.3.6 傅里叶转换红外光谱(FT-IR) | 第26页 |
2.3.7 光致发光谱(PL)和电子顺磁共振波谱仪(EPR) | 第26页 |
2.3.8 催化剂光电化学表征 | 第26-27页 |
2.4 光催化性能评价 | 第27-29页 |
2.4.1 光催化反应装置和光源 | 第27页 |
2.4.2 光催化气相降解有机污染物 | 第27-29页 |
第三章 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4的制备与可见光催化性能研究.. | 第29-43页 |
3.1 引言 | 第29-30页 |
3.2 实验部分 | 第30-31页 |
3.2.1 样品制备 | 第30页 |
3.2.2 样品表征和测试 | 第30-31页 |
3.3 结果与讨论 | 第31-42页 |
3.3.1 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4的结构及组成 | 第31-32页 |
3.3.2 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4的比表面积与孔径分布 | 第32-33页 |
3.3.3 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4的形貌和微观结构表征 | 第33-35页 |
3.3.4 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4元素化学价态 | 第35-38页 |
3.3.5 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4光学性能表征 | 第38-39页 |
3.3.6 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4缺陷表征 | 第39-40页 |
3.3.7 氮缺陷大比表面积g-C_3N_4光催化活性评价 | 第40-42页 |
3.4 本章小结 | 第42-43页 |
第四章 多孔石墨相氮化碳纳米片的制备与催化性能研究 | 第43-54页 |
4.1 引言 | 第43-44页 |
4.2 实验部分 | 第44-45页 |
4.2.1 样品制备 | 第44-45页 |
4.2.2 样品表征和测试 | 第45页 |
4.3 结果与讨论 | 第45-53页 |
4.3.1 多孔g-C_3N_4纳米片的物相表征 | 第45-46页 |
4.3.2 多孔g-C_3N_4纳米片的形貌表征 | 第46-48页 |
4.3.3 不同比例对比表面积的影响 | 第48-49页 |
4.3.4 多孔g-C_3N_4纳米片的光学性能表征 | 第49-50页 |
4.3.5 多孔g-C_3N_4纳米片的光物理性能表征 | 第50-51页 |
4.3.6 催化剂光催化活性评价 | 第51-53页 |
4.4 本章小结 | 第53-54页 |
第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
5.1 总结 | 第54-55页 |
5.2 展望 | 第55-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-62页 |
攻读学位期间发表的学术论文及参加科研情况 | 第62-63页 |