摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 分子基磁性材料概述 | 第10-11页 |
1.3 物质的磁性 | 第11-17页 |
1.3.1 磁性的发展 | 第11-12页 |
1.3.2 物质磁性的起源 | 第12页 |
1.3.3 物质磁性的分类 | 第12-16页 |
1.3.4 磁耦合作用 | 第16-17页 |
1.4 磁学中的阻挫现象 | 第17-18页 |
1.5 磁性材料磁结构的研究方法 | 第18-19页 |
1.5.1 中子衍射法 | 第18-19页 |
1.5.2 中子衍射和X射线衍射 | 第19页 |
1.6 交流磁化率 | 第19-20页 |
1.7 课题研究背景及意义 | 第20页 |
1.8 本文研究的内容 | 第20-22页 |
第2章 理论模型与计算方法 | 第22-38页 |
2.1 理论模型的来源及哈密顿量 | 第22-23页 |
2.2 自旋玻理论 | 第23-25页 |
2.3 格林函数方法 | 第25-26页 |
2.4 微磁学方法 | 第26-33页 |
2.4.1 LLG方程 | 第26-29页 |
2.4.2 自旋体系的LLG方程 | 第29-32页 |
2.4.3 求解LLG方程的Runge-Kutta方法 | 第32-33页 |
2.5 磁化强度的一致进动和铁磁共振 | 第33-35页 |
2.6 本章小结 | 第35-38页 |
第3章 钻石链结构分子磁性材料的基态分析 | 第38-52页 |
3.1 基态中可能存在的几种自旋构型 | 第38-41页 |
3.2 基态相图 | 第41-42页 |
3.3 各个基态相对应的自旋结构因子 | 第42-45页 |
3.4 在J_2≠J_3时的基态相图 | 第45-49页 |
3.5 本章小结 | 第49-52页 |
第4章 自旋波理论下的激发谱分析 | 第52-64页 |
4.1 自旋波方法 | 第52-59页 |
4.1.1 自旋偏转算符的引入 | 第55-56页 |
4.1.2 低激发态下的自旋波 | 第56-57页 |
4.1.3 引入双时格林函数运动方程 | 第57-59页 |
4.1.4 格点自旋取向的确定 | 第59页 |
4.2 系统的自旋波激发谱 | 第59-63页 |
4.3 本章小结 | 第63-64页 |
第5章 体系的交流磁化率 | 第64-70页 |
5.1 基态构型的设定 | 第64-65页 |
5.2 体系在不同外场作用下交流磁化率的变化情况 | 第65-67页 |
5.3 本章小结 | 第67-70页 |
第6章 结论 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
致谢 | 第78页 |