| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-26页 |
| 1.1 超纳米金刚石的结构，特性及应用 | 第11-17页 |
| 1.1.1 超纳米金刚石的结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 超纳米金刚石的特性 | 第12-14页 |
| 1.1.3 超纳米金刚石的应用 | 第14-17页 |
| 1.2 MPCVD法制备超纳米金刚石膜 | 第17-23页 |
| 1.2.1 超纳米金刚石膜的生长机理 | 第17-20页 |
| 1.2.2 MPCVD法制备超纳米金刚石膜的研究现状 | 第20-23页 |
| 1.3 本文研究的目的及意义 | 第23-24页 |
| 1.4 本文研究的方向及内容 | 第24-26页 |
| 第2章 实验装置与表征手段 | 第26-34页 |
| 2.1 实验装置 | 第26-30页 |
| 2.1.1 自制 10kW-MPCVD装置 | 第26-28页 |
| 2.1.2 Woosinent-R2.0 型MPCVD装置 | 第28-30页 |
| 2.2 超纳米金刚石膜的表征方法 | 第30-34页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第30页 |
| 2.2.2 拉曼光谱仪 | 第30-31页 |
| 2.2.3 X射线衍射仪 | 第31页 |
| 2.2.4 原子力显微镜 | 第31-32页 |
| 2.2.5 霍尔效应测试仪 | 第32-34页 |
| 第3章 CH_4/Ar/H2气氛生长超纳米金刚石膜的研究 | 第34-40页 |
| 3.1 不同氢气浓度对超纳米金刚石膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| 3.2 不同氢气浓度对超纳米金刚石膜质量的影响 | 第36-37页 |
| 3.3 不同氢气浓度对超纳米金刚石膜晶粒尺寸的影响 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 CH_4/N_2生长掺氮超纳米金刚石膜的研究 | 第40-47页 |
| 4.1 不同CH_4/N_2浓度比对掺氮超纳米金刚石膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| 4.2 不同CH_4/N_2浓度比对掺氮超纳米金刚石膜质量的影响 | 第42-43页 |
| 4.3 不同CH_4/N_2浓度比对掺氮超纳米金刚石膜晶粒及粗糙度的影响 | 第43-45页 |
| 4.4 不同CH_4/N_2浓度比对掺氮超纳米金刚石膜电阻率的影响 | 第45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 氢气浓度对制备掺氮超纳米金刚石膜影响的研究 | 第47-56页 |
| 5.1 不同氢气浓度对制备掺氮超纳米金刚石膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| 5.2 不同氢气浓度对制备掺氮超纳米金刚石膜生长速率的影响 | 第49-50页 |
| 5.3 不同氢气浓度对制备掺氮超纳米金刚石膜质量的影响 | 第50-51页 |
| 5.4 不同氢气浓度对制备掺氮超纳米金刚石膜晶粒尺寸的影响 | 第51-53页 |
| 5.5 不同氢气浓度对制备掺氮超纳米金刚石膜导电性能的影响 | 第53-54页 |
| 5.6 本章小结 | 第54-56页 |
| 第6章 大面积掺氮超纳米金刚石膜形貌的研究 | 第56-61页 |
| 6.1 不同基片位置处掺氮超纳米金刚石膜的表面形貌 | 第57-58页 |
| 6.2 不同基片位置处掺氮超纳米金刚石膜的质量 | 第58-59页 |
| 6.3 不同基片位置处掺氮超纳米金刚石膜的晶粒尺寸 | 第59-60页 |
| 6.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第7章 全文总结与展望 | 第61-64页 |
| 7.1 全文总结 | 第61-62页 |
| 7.2 论文展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-74页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
