| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第17-28页 |
| 1.1 引言 | 第17页 |
| 1.2 金属表面硅烷化处理技术简介 | 第17-22页 |
| 1.2.1 硅烷偶联剂的发展 | 第17-18页 |
| 1.2.2 硅烷偶联剂的结构及种类 | 第18-19页 |
| 1.2.3 硅烷偶联剂的应用机理 | 第19-22页 |
| 1.2.4 硅烷偶联剂在金属表面预处理中的应用 | 第22页 |
| 1.3 硅烷膜的成膜影响因素 | 第22-24页 |
| 1.3.1 金属基体前处理工艺的影响 | 第22-23页 |
| 1.3.2 硅烷溶液浓度的影响 | 第23页 |
| 1.3.3 硅烷溶液pH值的影响 | 第23-24页 |
| 1.3.4 固化温度和时间的影响 | 第24页 |
| 1.3.5 添加剂的影响 | 第24页 |
| 1.4 硅烷处理工艺的发展现状 | 第24-27页 |
| 1.4.1 单层硅烷复合膜 | 第25-26页 |
| 1.4.2 多层硅烷复合膜 | 第26-27页 |
| 1.5 课题研究的意义及内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验仪器和主要测试方法 | 第28-33页 |
| 2.1 实验准备 | 第28页 |
| 2.2 主要材料的介绍 | 第28-29页 |
| 2.2.1 金属基体及其化学组成 | 第28页 |
| 2.2.2 硅烷偶联剂(γ-GPS) | 第28-29页 |
| 2.3 实验方法 | 第29页 |
| 2.3.1 实验流程 | 第29页 |
| 2.3.2 金属基体的前处理 | 第29页 |
| 2.3.3 磷化液的配制 | 第29页 |
| 2.4 耐蚀性能测试 | 第29-31页 |
| 2.4.1 硫酸铜点蚀实验 | 第29-30页 |
| 2.4.2 中性盐雾试验(NSS) | 第30页 |
| 2.4.3 盐水浸泡试验 | 第30页 |
| 2.4.4 电化学性能测试 | 第30-31页 |
| 2.5 分析表征 | 第31-33页 |
| 2.5.1 红外光谱 | 第31页 |
| 2.5.2 电导率测试 | 第31页 |
| 2.5.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第31-32页 |
| 2.5.4 扫描电镜(SEM) | 第32页 |
| 2.5.5 原子力显微镜(AFM) | 第32-33页 |
| 第三章 普通硅烷膜的制备及性能表征 | 第33-49页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验材料与试剂 | 第33页 |
| 3.3 实验过程 | 第33-39页 |
| 3.3.1 硅烷溶液水解程度的监测 | 第33-35页 |
| 3.3.2 水解温度 | 第35-36页 |
| 3.3.3 添加剂 | 第36-37页 |
| 3.3.4 pH值 | 第37-38页 |
| 3.3.5 固化 | 第38-39页 |
| 3.3.6 工艺参数的确定 | 第39页 |
| 3.4 普通硅烷膜的最优工艺化研究 | 第39-41页 |
| 3.4.1 交实验 | 第39-40页 |
| 3.4.2 交实验结果及分析 | 第40-41页 |
| 3.5 最佳工艺条件下制备的普通硅烷膜的性能测试及表征 | 第41-48页 |
| 3.5.1 硫酸铜点蚀实验 | 第42页 |
| 3.5.2 电化学测试 | 第42-43页 |
| 3.5.3 中性盐雾实验 | 第43-45页 |
| 3.5.4 盐水浸泡实验 | 第45页 |
| 3.5.5 SEM/EDS实验 | 第45-48页 |
| 3.5.6 AFM结果分析 | 第48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 单层硅烷复合膜的制备及性能表征 | 第49-62页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 实验原料 | 第49页 |
| 4.3 实验过程 | 第49-50页 |
| 4.4 结果与分析 | 第50-52页 |
| 4.4.1 极化曲线结果分析 | 第50-52页 |
| 4.4.2 盐水浸泡实验结果分析 | 第52页 |
| 4.5 单层硅烷复合膜与磷化膜的性能比较 | 第52-59页 |
| 4.5.1 硫酸铜点蚀试样结果分析 | 第52-53页 |
| 4.5.2 电化学实验结果分析 | 第53-54页 |
| 4.5.3 SEM/EDS结果分析 | 第54-56页 |
| 4.5.4 XPS结果分析 | 第56-58页 |
| 4.5.5 红外光谱结果分析 | 第58-59页 |
| 4.5.6 AFM结果分析 | 第59页 |
| 4.6 单层硅烷复合膜成膜机理 | 第59-60页 |
| 4.7 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 双层硅烷复合膜的制备及性能表征 | 第62-74页 |
| 5.1 引言 | 第62页 |
| 5.2 实验原料 | 第62页 |
| 5.3 实验过程 | 第62-63页 |
| 5.3.1 正交实验 | 第63页 |
| 5.4 实验结果与分析 | 第63-72页 |
| 5.4.1 交实验 | 第64-65页 |
| 5.4.2 硫酸铜点蚀实验结果分析 | 第65页 |
| 5.4.3 电化学实验结果分析 | 第65-67页 |
| 5.4.4 附着力实验结果分析 | 第67-68页 |
| 5.4.5 SEM/EDS结果分析 | 第68-70页 |
| 5.4.6 AFM结果分析 | 第70页 |
| 5.4.7 XPS结果分析 | 第70-72页 |
| 5.5 稀土镧盐成膜机理 | 第72-73页 |
| 5.6 本章小结 | 第73-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及取得的科研成果 | 第81页 |