| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9页 |
| 第一章 绪论 | 第15-27页 |
| 1.1 非晶合金(块体与薄膜)的研究及其发展 | 第15-18页 |
| 1.2 金属玻璃薄膜的特殊性质 | 第18-19页 |
| 1.2.1 超稳定性 | 第18页 |
| 1.2.2 热处理诱导的非晶化 | 第18页 |
| 1.2.3 纳米金属玻璃 | 第18-19页 |
| 1.2.4 力学性能(多层膜) | 第19页 |
| 1.3 金属玻璃薄膜的潜在应用 | 第19-21页 |
| 1.3.1 微/纳机电系统(MEMS/NEMS) | 第19-20页 |
| 1.3.2 生物医学领域 | 第20页 |
| 1.3.3 改善基体性能 | 第20-21页 |
| 1.4 非晶合金薄膜的主要制备方法 | 第21-23页 |
| 1.4.1 真空蒸发法 | 第21页 |
| 1.4.2 溅射法 | 第21-22页 |
| 1.4.3 电沉积法 | 第22页 |
| 1.4.4 固态非晶化反应(Solid State Amophous Reaction,SSAR) | 第22-23页 |
| 1.5 薄膜的形成过程与生长方式 | 第23-24页 |
| 1.5.1 薄膜形成过程 | 第23-24页 |
| 1.5.2 薄膜的生长方式 | 第24页 |
| 1.6 本文选题意义及研究内容 | 第24-27页 |
| 第二章 实验样品的制备及性能测试 | 第27-35页 |
| 2.1 实验概况 | 第27页 |
| 2.2 实验样品的制备 | 第27-30页 |
| 2.2.1 蒸发材料及衬底材料的预处理 | 第27页 |
| 2.2.2 薄膜样品的蒸发沉积 | 第27-30页 |
| 2.3 薄膜样品的性能表征 | 第30-35页 |
| 2.3.1 结构与成分分析 | 第30-32页 |
| 2.3.2 热稳定性分析 | 第32页 |
| 2.3.3 厚度、形貌分析 | 第32页 |
| 2.3.4 表面粗糙度测试 | 第32-33页 |
| 2.3.5 光学性能测试 | 第33页 |
| 2.3.6 电学性能分析 | 第33-35页 |
| 第三章 Zr-Cu体系金属玻璃薄膜的制备及性能表征 | 第35-52页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 Zr-Cu金属玻璃薄膜 | 第35-41页 |
| 3.2.1 Zr-Cu金属玻璃薄膜的玻璃形成成分范围 | 第35-39页 |
| 3.2.2 Zr-Cu金属玻璃薄膜的热稳定性 | 第39-40页 |
| 3.2.3 Zr-Cu金属玻璃薄膜的断面形貌 | 第40-41页 |
| 3.3 Zr_62Cu_(38)金属玻璃薄膜(不同沉积时间) | 第41-50页 |
| 3.3.1 沉积时间对Zr_(62)Cu_(38)薄膜结构的影响 | 第41-44页 |
| 3.3.2 薄膜样品的热稳定性分析测试 | 第44-45页 |
| 3.3.3 沉积时间对样品厚度和形貌的影响 | 第45-47页 |
| 3.3.4 沉积时间对薄膜表面粗糙度的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.5 沉积时间对薄膜光学性能的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.6 沉积时间对薄膜电学性能的影响 | 第49-50页 |
| 3.4 小结 | 第50-52页 |
| 第四章 Zr-Cu-Ga体系金属玻璃薄膜的制备及性能表征 | 第52-63页 |
| 4.1 引言 | 第52-53页 |
| 4.2 Zr-Cu-Ga金属玻璃薄膜结构及性能 | 第53-61页 |
| 4.2.1 Ga含量对Zr-Cu-Ga体系非晶薄膜结构的影响 | 第53-57页 |
| 4.2.2 Ga含量对Zr-Cu-Ga体系非晶薄膜热稳定性的影响 | 第57-58页 |
| 4.2.3 Ga含量对Zr-Cu-Ga体系非晶薄膜形貌的影响 | 第58-60页 |
| 4.2.4 Ga含量对Zr-Cu-Ga体系非晶薄膜电学性能的影响 | 第60-61页 |
| 4.3 小结 | 第61-63页 |
| 第五章 全文总结及展望 | 第63-66页 |
| 5.1 本文主要实验内容 | 第63页 |
| 5.2 本文主要实验结果与结论 | 第63-64页 |
| 5.3 本文的创新点 | 第64-65页 |
| 5.4 本文存在的问题与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 硕士期间发表论文和申请专利情况 | 第74页 |
