| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 超导材料的发展历程 | 第10-11页 |
| 1.2 高温超导材料的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 高温超导带材的发展 | 第12-15页 |
| 1.3.1 第一代高温超导带材 | 第12-13页 |
| 1.3.2 第二代高温超导带材 | 第13-15页 |
| 1.4 基于IBAD-MgO路线的高温超导带材 | 第15-20页 |
| 1.4.1 金属基带 | 第15-16页 |
| 1.4.2 非晶氧化物阻挡层与非氧化物晶形核层 | 第16-17页 |
| 1.4.3 IBAD织构层与同质外延层 | 第17-18页 |
| 1.4.4 模板层 | 第18页 |
| 1.4.5 高温超导层 | 第18-19页 |
| 1.4.6 提高载流能力的技术手段 | 第19-20页 |
| 1.5 金属基带表面平整化处理 | 第20-22页 |
| 1.5.1 机械抛光 | 第20-21页 |
| 1.5.2 电化学抛光 | 第21-22页 |
| 1.5.3 溶液沉积表面平坦化 | 第22页 |
| 1.6 第二代YBCO高温超导带材发展现状 | 第22-23页 |
| 1.7 论文选题依据和内容安排 | 第23-25页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第25-37页 |
| 2.1 实验方法 | 第25-26页 |
| 2.1.1 溶液沉积表面平整化方法原理 | 第25-26页 |
| 2.1.2 金属有机溶液沉积法 | 第26页 |
| 2.2 实验试剂与实验设备 | 第26-31页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第26-27页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第27-28页 |
| 2.2.3 SDP设备 | 第28-31页 |
| 2.3 实验工艺流程 | 第31-32页 |
| 2.3.1 SDP法制备非晶氧化物阻挡层薄膜工艺流程 | 第31-32页 |
| 2.3.2 MOD法制备氧化物薄膜流程 | 第32页 |
| 2.4 测试仪器 | 第32-37页 |
| 2.4.1 热重分析仪 | 第32-33页 |
| 2.4.2 X射线衍射仪 | 第33-34页 |
| 2.4.3 正置反射金相显微镜 | 第34-35页 |
| 2.4.4 扫描电子显微镜 | 第35页 |
| 2.4.5 原子力显微镜 | 第35-37页 |
| 第三章 SDP法制备非晶氧化物阻挡层薄膜工艺研究 | 第37-63页 |
| 3.1 前驱液溶质分析 | 第37-38页 |
| 3.2 SDP法制备非晶Y_2O_3薄膜工艺研究 | 第38-46页 |
| 3.2.1 浸渍提拉速度对非晶Y_2O_3薄膜的影响 | 第38-41页 |
| 3.2.2 快速热处理温度对非晶Y_2O_3薄膜的影响 | 第41-44页 |
| 3.2.3 沉积层数对非晶Y_2O_3薄膜的影响 | 第44-46页 |
| 3.3 SDP法制备非晶Y-Al-O薄膜工艺研究 | 第46-56页 |
| 3.3.1 薄膜沉积层数对非晶Y-Al-O薄膜的影响 | 第47-49页 |
| 3.3.2 快速热处理温度对非晶Y-Al-O薄膜的影响 | 第49-52页 |
| 3.3.3 浸渍提拉速度对非晶Y-Al-O薄膜的影响 | 第52-53页 |
| 3.3.4 金属离子比例对非晶Y-Al-O薄膜的影响 | 第53-56页 |
| 3.4 可实用长带材SDP阻挡层薄膜的制备 | 第56-61页 |
| 3.4.1 SDP薄膜边缘开裂的处理 | 第56-58页 |
| 3.4.2 长带材表面均匀性验证 | 第58-59页 |
| 3.4.3 基于SDP阻挡层薄膜的带材制备结果 | 第59-61页 |
| 3.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 MOD法在YBCO薄膜表面制备缓冲层的探究 | 第63-68页 |
| 4.1 YBCO薄膜上Y_2O_3薄膜的制备 | 第63-64页 |
| 4.2 YBCO薄膜上CeO_2薄膜的制备 | 第64-67页 |
| 4.3 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第78-79页 |
