| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-14页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-14页 |
| 第二章 空间辐射环境介绍 | 第14-17页 |
| 2.1 银河宇宙射线 | 第14页 |
| 2.2 太阳宇宙射线 | 第14-15页 |
| 2.3 范.艾伦辐射带 | 第15-17页 |
| 第三章 质子对电子器件的辐照损伤 | 第17-20页 |
| 3.1 单粒子效应 | 第17页 |
| 3.2 总电离剂量效应 | 第17页 |
| 3.3 位移效应 | 第17-18页 |
| 3.4 溅射 | 第18-20页 |
| 第四章 MCNP与SRIM介绍 | 第20-27页 |
| 4.1 蒙特卡罗方法 | 第20页 |
| 4.2 MCNP介绍 | 第20-22页 |
| 4.2.1 几何 | 第21-22页 |
| 4.2.2 源的描述 | 第22页 |
| 4.2.3 材料的指定 | 第22页 |
| 4.3 SRIM介绍 | 第22-27页 |
| 第五章 质子屏蔽模拟分析 | 第27-37页 |
| 5.1 模拟内容 | 第27-28页 |
| 5.2 结果分析 | 第28-37页 |
| 第六章 SRIM模拟碲锌镉质子辐照损伤 | 第37-56页 |
| 6.1 模拟过程 | 第37页 |
| 6.2 模拟结果 | 第37-56页 |
| 6.2.1 SR模拟结果 | 第37-41页 |
| 6.2.2 不同能量质子辐照材料产生的空位分析 | 第41-47页 |
| 6.2.3 不同入射角度的质子辐照材料产生的空位分析 | 第47-53页 |
| 6.2.4 不同能量质子辐照CZT的溅射产额分析 | 第53-54页 |
| 6.2.5 不同角度质子辐照CZT的溅射产额分析 | 第54-55页 |
| 6.2.6 质子辐照不同厚度CZT靶的溅射产额分析 | 第55-56页 |
| 第七章 总结 | 第56-58页 |
| 7.1 结论 | 第56-57页 |
| 7.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |