摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 半导体光催化技术 | 第11-13页 |
1.1.1 半导体光催化的基本原理 | 第11-12页 |
1.1.2 半导体光催化的研究现状与应用 | 第12-13页 |
1.1.3 光催化技术的优势 | 第13页 |
1.1.4 光催化还原空气中关键组分N_2和O_2小分子 | 第13页 |
1.2 典型层状半导体光催化材料 | 第13-16页 |
1.2.1 二硫化钼半导体基本结构与性质 | 第14页 |
1.2.2 二硫化钼的合成方法 | 第14-15页 |
1.2.3 二硫化钼材料在光催化应用中主要的限制因素 | 第15页 |
1.2.4 氯氧化铋半导体基本结构与性质 | 第15-16页 |
1.2.5 氯氧化铋的合成方法 | 第16页 |
1.2.6 氯氧化铋材料在光催化应用中的主要因素 | 第16页 |
1.3 光催化剂表面修饰策略 | 第16-19页 |
1.3.1 表面金属离子修饰 | 第16-17页 |
1.3.2 表面光敏化 | 第17-18页 |
1.3.3 表面贵金属沉积 | 第18页 |
1.3.4 表面无机修饰 | 第18-19页 |
1.4 论文的选题思想及主要内容 | 第19-21页 |
1.4.1 选题思想 | 第19-20页 |
1.4.2 本文的主要内容 | 第20-21页 |
第二章 原子铁修饰促进少层二硫化钼对分子氮光催化还原的研究 | 第21-40页 |
2.1 前言 | 第21-23页 |
2.2 实验过程 | 第23-26页 |
2.2.1 实验试剂 | 第23页 |
2.2.2 实验仪器 | 第23-24页 |
2.2.3 光催化剂的合成 | 第24-25页 |
2.2.4 光催化固氮实验 | 第25页 |
2.2.5 理论计算参数设置 | 第25页 |
2.2.6 分析测试方法 | 第25-26页 |
2.3 结果与讨论 | 第26-39页 |
2.3.1 材料表征 | 第26-30页 |
2.3.2 光催化固氮产物检测 | 第30-33页 |
2.3.3 氮气的固定和转化 | 第33-35页 |
2.3.4 光生电子的转移 | 第35-37页 |
2.3.5 理论计算 | 第37-38页 |
2.3.6 反应机理 | 第38-39页 |
2.4 本章小结 | 第39-40页 |
第三章 磷酸表面修饰促进{001}晶面面暴露氯氧化铋光催化还原分子氧研究 | 第40-54页 |
3.1 前言 | 第40-41页 |
3.2 实验部分 | 第41-43页 |
3.2.1 实验试剂 | 第41页 |
3.2.2 实验仪器 | 第41-42页 |
3.2.3 光催化剂的合成 | 第42页 |
3.2.4 理论计算参数设置 | 第42-43页 |
3.2.5 电化学分析 | 第43页 |
3.2.6 分析测试方法 | 第43页 |
3.3 结果与讨论 | 第43-53页 |
3.3.1 光催化剂的表征 | 第43-45页 |
3.3.2 活性氧物种检测 | 第45-47页 |
3.3.3 表面氧空位的表征 | 第47-48页 |
3.3.4 表面电场及载流子寿命表征 | 第48-49页 |
3.3.5 理论计算 | 第49-50页 |
3.3.6 五氯酚钠的降解实验 | 第50-52页 |
3.3.7 反应机理 | 第52-53页 |
3.4 本章小结 | 第53-54页 |
第四章 结论与展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-64页 |
致谢 | 第64-65页 |