摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第13-33页 |
1.1 引言 | 第13-14页 |
1.2 材料表面与细胞的相互作用 | 第14-18页 |
1.2.1 结构特性的影响 | 第15页 |
1.2.2 化学特性的影响 | 第15-16页 |
1.2.3 物理特性的影响 | 第16-18页 |
1.3 材料表面电势对细胞生长行为的影响研究 | 第18-27页 |
1.3.1 对细胞粘附和增殖的影响 | 第18-20页 |
1.3.2 对细胞成骨分化的影响 | 第20-21页 |
1.3.3 对细胞成骨分化的机制研究 | 第21-27页 |
1.4 P(VDF-TrFE)材料及其生物学效应 | 第27-31页 |
1.4.1 P(VDF-TrFE)的结构、性质及应用 | 第27-28页 |
1.4.2 P(VDF-TrFE)的表面电势构建 | 第28-30页 |
1.4.3 P(VDF-TrFE)表面电势与细胞相互作用的研究 | 第30-31页 |
1.5 研究意义和内容 | 第31-33页 |
第二章 实验及表征方法 | 第33-47页 |
2.1 实验原料与设备 | 第33-35页 |
2.2 实验方法 | 第35-36页 |
2.2.1 钛基底的清洗 | 第35页 |
2.2.2 P(VDF-TrFE)薄膜的制备 | 第35页 |
2.2.3 CFO/P(VDF-TrFE)磁电薄膜的制备 | 第35-36页 |
2.3 材料学表征 | 第36-39页 |
2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第36页 |
2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第36-37页 |
2.3.3 扫描探针显微镜(SPM) | 第37页 |
2.3.4 X射线衍射仪(XRD) | 第37页 |
2.3.5 傅里叶变换红外光谱学(FTIR) | 第37-38页 |
2.3.6 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第38页 |
2.3.7 压电系数测量仪(d_(33)仪) | 第38页 |
2.3.8 振动样品磁强计(VSM) | 第38页 |
2.3.9 磁电测量系统 | 第38-39页 |
2.4 生物学评价 | 第39-45页 |
2.4.1 蛋白吸附及构象 | 第39-40页 |
2.4.2 细胞粘附和增殖 | 第40页 |
2.4.3 细胞形态 | 第40-41页 |
2.4.4 细胞分化 | 第41页 |
2.4.4.1 碱性磷酸酶(ALP)活性 | 第41页 |
2.4.4.2 Ⅰ型胶原的(Col-Ⅰ)分泌 | 第41页 |
2.4.4.3 骨钙素(OCN)分泌 | 第41页 |
2.4.5 实时-聚合酶链反应(rt-PCR) | 第41-42页 |
2.4.6 细胞外基质(ECM)矿化 | 第42-43页 |
2.4.7 蛋白免疫印迹(Western blotting) | 第43-45页 |
2.5 分子动力学模拟 | 第45-47页 |
2.5.1 系统模型的建立 | 第45页 |
2.5.2 系统模型的优化及运算 | 第45-47页 |
第三章 P(VDF-TrFE)基功能薄膜的制备及其表面电势的调制 | 第47-69页 |
3.1 P(VDF-TrFE)薄膜的制备及其表面电势的静态调制 | 第47-55页 |
3.1.1 薄膜制备与极化 | 第47-48页 |
3.1.2 薄膜材料学表征 | 第48-53页 |
3.1.2.1 表面形貌 | 第48-49页 |
3.1.2.2 表面粗糙度 | 第49-50页 |
3.1.2.3 晶相结构 | 第50-51页 |
3.1.2.4 红外光谱 | 第51-52页 |
3.1.2.5 表面成分 | 第52-53页 |
3.1.3 薄膜表面电势的静态调制 | 第53-55页 |
3.1.3.1 调制压电系数 | 第53-54页 |
3.1.3.2 调制静态表面电势 | 第54页 |
3.1.3.3 静态表面电势稳定性 | 第54-55页 |
3.2 CFO/P(VDF-TrFE)磁电薄膜的制备及其表面电势的动态调制 | 第55-68页 |
3.2.1 薄膜制备和极化 | 第56页 |
3.2.2 CFO掺入量对薄膜材料学特性的影响 | 第56-60页 |
3.2.2.1 表面形貌 | 第56-57页 |
3.2.2.2 颗粒的分布 | 第57-58页 |
3.2.2.3 晶相结构 | 第58-59页 |
3.2.2.4 磁电耦合性能 | 第59-60页 |
3.2.3 10%CFO含量薄膜的材料学表征 | 第60-65页 |
3.2.3.1 表面形貌 | 第60-61页 |
3.2.3.2 表面粗糙度 | 第61页 |
3.2.3.3 元素组成及分布 | 第61-62页 |
3.2.3.4 表面成分 | 第62-63页 |
3.2.3.5 晶相结构 | 第63-64页 |
3.2.3.6 红外光谱 | 第64-65页 |
3.2.4 10%CFO含量薄膜表面电势的动态调制 | 第65-68页 |
3.2.4.1 压电性能 | 第65-66页 |
3.2.4.2 磁响应性 | 第66-67页 |
3.2.4.3 调制动态表面电势 | 第67-68页 |
3.3 本章小结 | 第68-69页 |
第四章 静态表面电势与前成骨细胞相互作用的评价和分析 | 第69-87页 |
4.1 表面电势对细胞生长行为的影响 | 第69-77页 |
4.1.1 细胞的粘附和增殖 | 第69-70页 |
4.1.2 细胞形貌和铺展 | 第70-72页 |
4.1.3 细胞的成骨分化 | 第72-77页 |
4.1.3.1 ALP活性 | 第72-73页 |
4.1.3.2 Collagen-Ⅰ分泌 | 第73-74页 |
4.1.3.3 OCN分泌 | 第74-75页 |
4.1.3.4 矿化能力 | 第75-76页 |
4.1.3.5 成骨相关基因表达 | 第76-77页 |
4.2 表面电势对纤连蛋白吸附状态的影响 | 第77-81页 |
4.2.1 吸附密度 | 第77-78页 |
4.2.2 吸附构型 | 第78-81页 |
4.2.2.1 绑定活性 | 第78-79页 |
4.2.2.2 MD模拟 | 第79-81页 |
4.3 表面电势对细胞成骨分化的作用机制 | 第81-86页 |
4.3.1 对细胞整合素表达影响 | 第82-83页 |
4.3.2 对整合素介导的成骨分化信号通路的影响 | 第83-84页 |
4.3.3 作用机制分析 | 第84-86页 |
4.4 本章小结 | 第86-87页 |
第五章 动态磁致表面电势与前成骨细胞相互作用的评价和分析 | 第87-103页 |
5.1 磁致表面电势对细胞生长行为的影响 | 第87-94页 |
5.1.1 磁致表面电势对细胞生长行为的影响 | 第87-89页 |
5.1.2 磁致表面电势对单个生长阶段的影响 | 第89-90页 |
5.1.3 磁致表面电势动态变化对细胞形貌的影响 | 第90-92页 |
5.1.4 磁致表面电势动态变化对细胞成骨分化的影响 | 第92-94页 |
5.1.4.1 ALP活性 | 第92-93页 |
5.1.4.2 成骨基因表达 | 第93-94页 |
5.2 磁致表面电势动态变化对纤连蛋白吸附状态的影响 | 第94-98页 |
5.2.1 吸附密度 | 第95页 |
5.2.2 吸附构型 | 第95-98页 |
5.2.2.1 绑定活性 | 第95-96页 |
5.2.2.2 MD模拟 | 第96-98页 |
5.3 磁致表面电势动态变化对细胞成骨分化的作用机制 | 第98-102页 |
5.3.1 对细胞整合素表达影响 | 第98-99页 |
5.3.2 对整合素介导的成骨分化信号通路的影响 | 第99-100页 |
5.3.3 作用机制分析 | 第100-102页 |
5.4 本章小结 | 第102-103页 |
第六章 全文总结与展望 | 第103-107页 |
参考文献 | 第107-117页 |
致谢 | 第117-119页 |
个人简历 | 第119-121页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第121页 |