| 中文摘要 | 第3-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-30页 |
| 1.1 真空弧等离子体 | 第13-18页 |
| 1.1.1 等离子体概述 | 第13-15页 |
| 1.1.2 真空弧等离子体的研究发展 | 第15-17页 |
| 1.1.3 等离子体诊断技术概述 | 第17-18页 |
| 1.2 真空弧等离子体的研究现状 | 第18-23页 |
| 1.2.1 真空弧等离子体的产生 | 第18-20页 |
| 1.2.2 真空弧等离子体的扩散特性 | 第20-23页 |
| 1.2.3 影响真空弧等离子体特性的因素 | 第23页 |
| 1.3 光学诊断技术在真空弧等离子体研究中的应用 | 第23-27页 |
| 1.3.1 激光光学诊断技术研究真空弧等离子体特性 | 第25-26页 |
| 1.3.2 发射光谱技术研究真空弧等离子体特性 | 第26-27页 |
| 1.3.3 高速摄影技术研究真空弧等离子体特性 | 第27页 |
| 1.4 研究意义和创新性 | 第27-28页 |
| 1.5 本文研究内容和重点 | 第28-30页 |
| 第二章 实验装置及诊断步骤 | 第30-42页 |
| 2.1 实验平台 | 第30-33页 |
| 2.1.1 放电装置 | 第31页 |
| 2.1.2 发射光谱系统 | 第31-32页 |
| 2.1.3 高速摄影系统 | 第32-33页 |
| 2.2 实验方法 | 第33-37页 |
| 2.2.1 真空弧等离子体参数的诊断方法 | 第33-35页 |
| 2.2.2 不同放电条件的影响 | 第35-36页 |
| 2.2.3 真空弧阴极斑的观测 | 第36-37页 |
| 2.2.4 真空弧等离子体光强的时空演变 | 第37页 |
| 2.3 实验平台性能调试 | 第37-42页 |
| 2.3.1 光谱仪系统调试和校准 | 第38-40页 |
| 2.3.2 高速相机系统调试和校准 | 第40-42页 |
| 第三章 脉冲真空弧等离子体参数的诊断 | 第42-86页 |
| 3.1 脉冲真空弧等离子体的光谱特点 | 第43-46页 |
| 3.2 脉冲真空弧等离子体激发温度和电离温度的诊断 | 第46-51页 |
| 3.2.1 电子激发温度 | 第46-49页 |
| 3.2.2 电离温度 | 第49-51页 |
| 3.3 脉冲真空弧等离子体气体温度的诊断 | 第51-55页 |
| 3.3.1 多普勒展宽法和转动能级波尔兹曼拟合法 | 第52-53页 |
| 3.3.2 连续谱拟合法 | 第53-55页 |
| 3.4 脉冲真空弧等离子体电子密度的诊断 | 第55-80页 |
| 3.4.1 氢原子谱线Stark展宽理论 | 第56-66页 |
| 3.4.2 氢原子alpha线展宽去卷积计算电子密度 | 第66-73页 |
| 3.4.3 氕氘原子谱线双峰Stark展宽法测量电子密度和离子温度 | 第73-80页 |
| 3.5 脉冲真空弧等离子体非平衡态效应的矫正 | 第80-85页 |
| 3.5.1 非平衡态判据 | 第80-81页 |
| 3.5.2 非平衡态效应的修正 | 第81-85页 |
| 3.6 本章小结 | 第85-86页 |
| 第四章 影响真空弧等离子体特性的因素 | 第86-114页 |
| 4.1 放电电流对等离子体的影响规律 | 第86-100页 |
| 4.1.1 放电电流的影响 | 第86-94页 |
| 4.1.2 引起光强局部波动的原因 | 第94-100页 |
| 4.2 放电间距对等离子体的影响 | 第100-107页 |
| 4.2.1 放电光谱的比较 | 第100-104页 |
| 4.2.2 放电电流的影响 | 第104-107页 |
| 4.3 背景气压对等离子体的影响 | 第107-112页 |
| 4.3.1 背景气压对小间距等离子体的影响 | 第107-110页 |
| 4.3.2 背景气压对大间距等离子体的影响 | 第110-112页 |
| 4.4 本章小结 | 第112-114页 |
| 第五章 真空弧放电瞬态过程研究 | 第114-137页 |
| 5.1 真空击穿过程 | 第114-125页 |
| 5.1.1 击穿过程观测 | 第115-124页 |
| 5.1.2 阴极表面光斑位置的变化 | 第124-125页 |
| 5.2 真空弧阴极斑特性 | 第125-133页 |
| 5.3 等离子体射流 | 第133-135页 |
| 5.4 本章小结 | 第135-137页 |
| 第六章 结论 | 第137-142页 |
| 6.1 主要结论 | 第137-139页 |
| 6.2 研究展望 | 第139-142页 |
| 参考文献 | 第142-150页 |
| 在学期间的研究成果 | 第150-151页 |
| 致谢 | 第151页 |
