自组装外延生长PZT-NFO纳米复合磁电薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 多铁性材料 | 第10-18页 |
| 1.1.1 铁电性与铁磁性 | 第10-12页 |
| 1.1.2 磁电多铁性材料 | 第12-13页 |
| 1.1.3 单相磁电材料 | 第13-14页 |
| 1.1.4 复合磁电材料 | 第14-15页 |
| 1.1.5 磁电复合薄膜 | 第15-18页 |
| 1.2 铁磁纳米线与非互易性器件 | 第18-20页 |
| 1.3 本文主要工作 | 第20-22页 |
| 第二章 实验与表征 | 第22-32页 |
| 2.1 制备技术 | 第22-25页 |
| 2.1.1 靶材制备技术 | 第22-23页 |
| 2.1.2 离轴磁控溅射 | 第23-25页 |
| 2.2 测试表征手段 | 第25-31页 |
| 2.2.1 结构测试手段 | 第25-27页 |
| 2.2.2 性能测试手段 | 第27-31页 |
| 2.3 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 靶材制备与基片处理 | 第32-47页 |
| 3.1 靶材的烧结及性能 | 第32-41页 |
| 3.1.1 PZT-NFO复合靶材制备 | 第32-36页 |
| 3.1.2 靶材的性能 | 第36-41页 |
| 3.2 底电极的制备 | 第41-44页 |
| 3.2.1 Fe_3O_4底电极 | 第41-43页 |
| 3.2.2 SRO底电极 | 第43-44页 |
| 3.3 基片的处理 | 第44-46页 |
| 3.4 小结 | 第46-47页 |
| 第四章 PZT-NFO薄膜制备及性能研究 | 第47-58页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 PZT-NFO复合薄膜制备 | 第47-48页 |
| 4.3 薄膜的性能分析 | 第48-57页 |
| 4.3.1 基片温度对薄膜结构和性能的影响 | 第48-50页 |
| 4.3.2 溅射氩氧比对薄膜结构和性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.3.3 溅射功率和时间对薄膜结构和性能的影响 | 第52-54页 |
| 4.3.4 PZT-NFO薄膜P-E测试 | 第54-55页 |
| 4.3.5 PZT-NFO薄膜的FMR测试 | 第55-57页 |
| 4.4 小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 结论 | 第58-59页 |
| 5.2 展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第65-66页 |
